- ICP刻蚀技术研究
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- 《厦门大学学报(自然科学版)》厦门大学机电工程系;厦门大学萨本栋微机电研究中心 郑志霞 冯勇建 张春权 出版年:2004
- 关键词:感应耦合等离子体 干法刻蚀 选择比 微电子机械系统
- PECVD法生长氮化硅工艺的研究 ( EI收录)
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- 《功能材料》苏州市职业大学电子信息工程系;福州大学物理与电信工程学院;厦门大学萨本栋微机电研究中心 吴清鑫 陈光红 于映 罗仲梓 出版年:2007
- 关键词:PECVD 氮化硅 聚酰亚胺 残余应力 射频MEMS开关
- 聚酰亚胺在MEMS中的特性研究及应用
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- 《微纳电子技术》厦门大学机电工程系;厦门大学萨本栋微机电研究中心 邓俊泳 冯勇建 出版年:2003
- 关键词:聚酰亚胺 MEMS 牺牲层 绝缘层 平坦层 工艺流程 高分子材料 微机电系统
- 基于斩波技术的CMOS运算放大器失调电压的消除设计
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- 《半导体技术》厦门大学萨本栋微机电研究中心物理学系 吴孙桃 林凡 郭东辉 李静 出版年:2003
- 关键词:斩波技术 CMOS 运算放大器 失调电压 消除设计 集成电路
- TMAH单晶硅腐蚀特性研究
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- 《微纳电子技术》厦门大学机电工程系;厦门大学萨本栋微机电研究中心 邓俊泳 冯勇建 出版年:2003
- 关键词:四甲基氢氧化氧 TMAH 单晶硅 腐蚀特性 各向异性腐蚀 微机电系统
- 集成电路版图(layout)设计方法与实例
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- 《现代电子技术》厦门大学萨本栋微机电研究中心 程未 冯勇建 杨涵 出版年:2003
- 关键词:集成电路 版图设计 MOS 面积 设计规则
- 激光共焦扫描显微镜在微机电系统中的应用 ( EI收录)
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- 《光学精密工程》厦门大学萨本栋微机电研究中心;华侨大学信息科学与工程学院 曾毅波 蒋书森 黄彩虹 张玉龙 张艳 出版年:2008
- 关键词:激光共焦扫描显微镜 微机电系统 角度测量 形貌分析 图形拼接
- PECVD淀积SiO_2的应用
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- 《功能材料与器件学报》厦门大学萨本栋微机电研究中心;天津大学材料学院 吕文龙 罗仲梓 何熙 张春权 出版年:2008
- 关键词:PECVD SIO2 AZ5214E 剥离
- 氮化硅薄膜力学性能的研究及其在射频MEMS开关中的应用
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- 《传感技术学报》福州大学物理与信息工程学院;厦门大学萨本栋微机电研究中心 于映 吴清鑫 罗仲梓 出版年:2006
- 关键词:氮化硅薄膜 杨氏模量 MEMS 射频开关
- PDMS微流控芯片中真空氧等离子体键合方法
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- 《微纳电子技术》厦门大学化学系;厦门大学萨本栋微机电研究中心 沈德新 张春权 罗仲梓 周勇亮 张峰 李佳 田昭武 出版年:2003
- 关键词:PDMS 微流控芯片 聚二甲基硅氧烷 真空氧等离子体 键合