河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所 
研究主题：CMP 化学机械抛光 抛光液 去除速率 ULSI
研究学科：电子信息类 自动化类 电气类 建筑类 机械类
- 四探针技术测量薄层电阻的原理及应用
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- 《半导体技术》河北工业大学微电子技术研究所 刘新福 孙以材 刘东升 出版年：2004
- 关键词：四探针 薄层电阻 Rymaszewski法 范德堡法
- 一维光子晶体的光学传输特性分析 ( EI收录)
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- 《光子学报》军械工程学院光学与电子工程系;河北工业大学微电子研究所 段晓峰 牛燕雄 张雏 张存善 出版年：2003
- 关键词：一维光子晶体 光学传输特性 等效F-P腔方法 周期数 光子禁带 光子局域 缺陷态
- ULSI硅衬底的化学机械抛光 ( EI收录)
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- 《Journal of Semiconductors》河北工业大学微电子技术与材料研究所;天津理工学院光电信息系 张楷亮 刘玉岭 王芳 李志国 韩党辉 出版年：2004
- 关键词：硅衬底 化学机械抛光(CMP) ULSI 纳米研磨料 动力学过程
- 酸酐固化环氧树脂-有机蒙脱土纳米复合材料的制备及性能研究 ( EI收录)
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- 《复合材料学报》河北工业大学微电子技术与材料研究所;河北工业大学高分子科学与工程研究所;天津理工学院光电信息系 张楷亮 王立新 王芳 任丽 出版年：2004
- 关键词：环氧树脂 蒙脱土 纳米复合材料 甲基四氢酸酐 动态力学
- 蓝宝石衬底材料CMP抛光工艺研究
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- 《微纳电子技术》河北工业大学微电子研究所 赵之雯 牛新环 檀柏梅 袁育杰 刘玉岭 出版年：2006
- 关键词：蓝宝石 化学机械抛光 影响因素 表面状态
- 适于ULSI的一种新的铜的CMP抛光液 ( EI收录)
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- 《Journal of Semiconductors》河北工业大学微电子研究所 王弘英 刘玉岭 张德臣 出版年：2002
- 关键词：铜 ULSI 化学机械抛光 抛光液 集成电路
- 蓝宝石衬底片的抛光研究
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- 《电子工艺技术》河北工业大学微电子研究所 王娟 檀柏梅 赵之雯 李薇薇 周建伟 出版年：2005
- 关键词：蓝宝石 抛光 机理 硅溶胶
- 硅单晶片研磨液的研究 ( EI收录)
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- 《稀有金属》河北工业大学微电子研究所 刘玉岭 檀柏梅 孙光英 蒋建国 出版年：2001
- 关键词：研磨液 悬浮 金属离子 颗粒吸附 表面活性剂 单晶硅
- 新型碱性阻挡层抛光液在300mm铜布线平坦化中的应用 ( EI收录)
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- 《功能材料》河北工业大学微电子研究所 魏文浩 刘玉岭 王辰伟 牛新环 郑伟艳 尹康达 出版年：2012
- 关键词：碱性阻挡层抛光液 去除速率 选择性 碟形坑 蚀坑
- pH值调节剂对Si片CMP速率的影响
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- 《微纳电子技术》河北工业大学微电子研究所 杨金波 刘玉岭 刘效岩 胡轶 孙鸣 出版年：2010
- 关键词：有机碱 KOH 硅片 溶解度 抛光速率
