期刊文章详细信息
蓝宝石衬底材料CMP抛光工艺研究
Research of Sapphire Substrate CMP
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]河北工业大学微电子研究所,天津300130
年 份：2006
卷 号：43
期 号：1
起止页码：16-19
语 种：中文
收录情况：AJ、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、INSPEC、RCCSE、ZGKJHX、普通刊
摘 要：介绍了蓝宝石衬底的化学机械抛光工艺,阐述了蓝宝石衬底的应用发展前景以及加工工艺中存在的问题,总结了影响CMP工艺的多种因素,并系统地分析了蓝宝石抛光工艺过程的性能参数及其影响因素,提出了优化方案,采用大粒径、低分散度的磨料,加入有机碱及活性剂,能够有效提高蓝宝石表面的性能及加工效率。
关 键 词：蓝宝石 化学机械抛光 影响因素 表面状态
分 类 号：TN304.21] TN305.2
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