河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所

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研究主题：CMP    化学机械抛光    抛光液    去除速率    ULSI    

研究学科：电子信息类    自动化类    电气类    建筑类    机械类    

被引量：836H指数：12WOS: 13 EI: 44 北大核心: 192 CSCD: 120