- 我国超净高纯试剂市场需求及产业化前景
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- 《精细与专用化学品》北京科华微电子材料有限公司 穆启道 出版年：2008
- 关键词：超净高纯试剂 产业化前景 市场需求 电路集成度 Moore定律 ROADMAP 半导体技术 技术发展现状
- I-Line光刻胶材料的研究进展
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- 《影像科学与光化学》北京科华微电子材料有限公司 郑金红 出版年：2012
- 关键词：i-line 光刻胶 酚醛树脂 感光剂 溶解促进剂
- 我国电子化学品“十一五”发展方向(一)
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- 《精细与专用化学品》北京科华微电子材料有限公司;清华大学国际技术转移中心 郑金红 侯宏森 出版年：2007
- 关键词：光刻胶 高纯试剂 塑封料 液晶
- 我国光刻胶的市场现状及发展趋势
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- 《精细与专用化学品》北京科华微电子材料有限公司 郑金红 出版年：2009
- 关键词：光刻胶 发展趋势 市场现状 193nm光刻 微电子技术 光刻技术 摩尔定律 成膜树脂
- 集成电路制造用光刻胶发展现状及挑战
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- 《精细与专用化学品》北京科华微电子材料有限公司 李冰 出版年：2021
- 关键词：光刻胶 极紫外光刻 丙烯酸树脂 金刚烷
- 光刻胶材料发展状况及下一代光刻技术对图形化材料的挑战
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- 《新材料产业》北京科华微电子材料有限公司 李冰 马洁 刁翠梅 孙嘉 李海波 出版年：2018
- 关键词：下一代光刻技术 材料发展 光刻胶 图形化 集成电路芯片 芯片集成度 运行速度 摩尔定律
- 193nm浸没式光刻材料的研究进展
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- 《半导体技术》北京科华微电子材料有限公司 何鉴 高子奇 李冰 郑金红 穆启道 出版年：2008
- 关键词：193 nm浸没式光刻 浸没液体 顶部涂料 光刻胶
- 用于浸没式工艺的光刻胶研究进展
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- 《影像科学与光化学》北京科华微电子材料有限公司;中国科学院上海有机化学研究所 何鉴 盛瑞隆 穆启道 出版年：2009
- 关键词：浸没式光刻 光刻胶 主体树脂 光致产酸剂
- 我国电子化学品“十一五”发展方向(二)
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- 《精细与专用化学品》北京科华微电子材料有限公司;清华大学国际技术转移中心 郑金红 侯宏森 出版年：2007
- 关键词：电子化学品 “十一五” PCB工业 加工处理 电子元件 印刷电路板 总产值 发展速度
- 用于大分子定向自组装的新型嵌段共聚物的合成与表征
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- 《影像科学与光化学》北京科华微电子材料有限公司;Department of Chemical and Biomolecular Engineering;Department of Chemistry and Biomolecular Engineering 李冰 李海波 Mark Neisser Caleb L.Breaux Clifford L.Henderson 出版年：2018
- 关键词：大分子自组装 嵌段共聚物 小角X射线散射 阴离子聚合 原子转移自由基聚合
