文献类型：期刊文章

作　　者：何鉴[1] 盛瑞隆[2] 穆启道[1]

机构地区：[1]北京科华微电子材料有限公司,北京101312 [2]中国科学院上海有机化学研究所,上海200032

出　　处：《影像科学与光化学》

基　　金：北京市科技计划项目(课题编号:Z08080302110801)

年　　份：2009

卷　　号：27

期　　号：5

起止页码：379-390

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2008、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、IC、JST、PROQUEST、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：浸没式光刻技术是在原干法光刻的基础上采用高折射率浸没液体取代原来空气的空间,从而提高光刻分辨率的一种先进技术.此项技术的实际应用,为当前IC产业的飞速发展起到了关键的作用.本文概述了浸没式光刻技术的发展历程和浸没式光刻胶遇到的挑战及要求;对浸没式光刻胶主体树脂、光致产酸剂及添加剂的研究进展进行了综述;最后对浸没式光刻胶的研究发展方向作了进一步的探讨及初步预测.

关 键 词：浸没式光刻 光刻胶 主体树脂  光致产酸剂  

分 类 号：TN305.7]