文献类型：期刊文章

作　　者：穆启道[1]

机构地区：[1]北京科华微电子材料有限公司,北京101312

出　　处：《精细与专用化学品》

年　　份：2008

卷　　号：16

期　　号：23

起止页码：18-21

语　　种：中文

收录情况：CAS、普通刊

摘　　要：一 微电子技术发展现状及趋势 随着集成电路集成度的不断提高，电路的线宽越来越细。从第一个晶体管问世算起．半导体技术的发展已有多半个世纪了．现在它仍保持着强劲的发展态势，继续遵循Moore定律，即芯片集成度18个月翻一番．每三年器件尺寸缩小0．7倍的速度在发展。特别是二十世纪九十年代末以来，集成电路制作技术的竞争更为激烈．发展速度更为加快，根据2007年的国际半导体技术路线图（International Technology Roadmap for Semiconductors，ITRS）显示，90nm、

关 键 词：超净高纯试剂  产业化前景  市场需求  电路集成度  Moore定律  ROADMAP 半导体技术 技术发展现状  

分 类 号：F426.72]