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期刊文章详细信息

I-Line光刻胶材料的研究进展    

Evolution and Progress of I-Line Photoresist Materials

  

文献类型:期刊文章

作  者:郑金红[1]

机构地区:[1]北京科华微电子材料有限公司,北京101312

出  处:《影像科学与光化学》

年  份:2012

卷  号:30

期  号:2

起止页码:81-90

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX2011、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、IC、JST、PROQUEST、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:酚醛树脂-重氮萘醌正型光刻胶由于其优异的光刻性能,在g-line(436nm)、i-line(365nm)光刻中被广泛使用.g-line光刻胶胶、i-line光刻胶,两者虽然都是用线型酚醛树脂做成膜树脂,重氮萘醌型酯化物作感光剂,但当曝光波长从g-line发展到i-line时,为适应对应的曝光波长以及对高分辨率的追求,酚醛树脂及感光剂的微观结构均有变化.在i-line光刻胶中,酚醛树脂的邻-邻′相连程度高,感光剂酯化度高,重氮萘醌基团间的间距远.溶解促进剂是i-line光刻胶的一个重要组分,本文对其也进行了介绍.

关 键 词:i-line  光刻胶 酚醛树脂 感光剂 溶解促进剂  

分 类 号:TQ437]

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同被引文献:

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