中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室 
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研究主题：电子束光刻 X射线光刻 非挥发性存储器 X射线 衍射光栅
研究学科：电子信息类 自动化类 机械类 电气类 核工程类
被引量：204H指数：8WOS: 12 EI: 27 北大核心: 61 CSCD: 42
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排序方式：
- 晶体硅太阳电池表面钝化技术
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- 《微纳电子技术》中国科学院微电子研究所微波器件与集成电路研究室;北京交通大学光电子技术研究所;中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室 陈伟 贾锐 张希清 陈晨 武德起 李昊峰 吴大卫 陈宝钦 刘新宇 出版年：2011
- 国家自然科学基金资助项目(60676001;60706023);国家重点基础研究发展计划资助项目(2009CB939703);中国科学院所长基金资助项目(YZ0635)
- 介绍了晶体硅太阳电池表面钝化技术的发展历程,表面钝化膜在晶体硅太阳电池中所起的作用,以及晶体硅太阳电池中各种钝化膜和表面钝化技术。阐述了国内和国际对晶体硅太阳电池表面钝化技术的最新研究动态,重点论述了SiO2,SiNx,...
- 关键词：太阳电池 钝化 减反特性 转换效率 表面复合 叠层钝化膜
- 阻变存储器及其集成技术研究进展
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- 《微电子学》中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室 左青云 刘明 龙世兵 王琴 胡媛 刘琦 张森 王艳 李颖弢 出版年：2009
- 国家高技术研究发展(863)计划基金资助项目(2008AA031403);国家重点基础研究发展(973)计划基金资助项目(2006CB302706);国家自然科学基金资助项目(60825403;90607022;60506005)
- 在各种新型非挥发性存储器中,阻变存储器(RRAM)具有成为下一代存储器的潜力。介绍了RRAM器件的基本结构,分类总结了常用的材料以及制备工艺,对RRAM阵列的集成方案进行了比较,并讨论了目前存在的问题;最后,对RRAM的...
- 关键词：非挥发性存储器 阻变存储器 电阻转变
- 高线密度X射线透射光栅的制作工艺 ( EI收录)
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- 《Journal of Semiconductors》中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室;中国工程物理研究院激光聚变中心 朱效立 马杰 曹磊峰 杨家敏 谢常青 刘明 陈宝钦 牛洁斌 张庆钊 姜骥 赵珉 叶甜春 出版年：2007
- 国家重点基础研究发展规划(批准号:2007CB935302);国家高技术研究发展计划(批准号:2006AA843134);国家自然科学基金(批准号:90607022)资助项目~~
- 采用电子束光刻、X射线光刻和微电镀技术,成功制作了面积为10mm×0.5mm,周期为500nm,占空比为1∶1,金吸收体厚度为430nm的可用于X射线衍射的大面积透射光栅.首先利用电子束光刻和微电镀技术制备基于镂空薄膜结...
- 关键词：电子束光刻 透射光栅 X射线光刻 X射线衍射光学元件
- 基于I-V特性的阻变存储器的阻变机制研究
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- 《微纳电子技术》中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室;兰州大学物理科学与技术学院微电子研究所;安徽大学电子科学与技术学院 李颖弢 刘明 龙世兵 刘琦 张森 王艳 左青云 王琴 胡媛 刘肃 出版年：2009
- 国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2008AA031403);国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(2006CB302706);国家自然科学基金资助项目(60825403,90607022,60506005)
- 随着器件尺寸的缩小,阻变存储器(RRAM)具有取代现有主流Flash存储器成为下一代新型存储器的潜力。但对RRAM器件电阻转变机制的研究在认识上依然存在很大的分歧,直接制约了RRAM的研发与应用。通过介绍阻变存储器的基本...
- 关键词：阻变存储器 非挥发性存储器 I-V特性 阻变机制 工作原理
- 3333lp/mm X射线透射光栅的研制 ( EI收录)
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- 《光学学报》中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室;中国工程物理研究院高温高密度等离子等国家重点实验室 朱效立 马杰 谢常青 叶甜春 刘明 曹磊峰 杨家敏 张文海 出版年：2008
- 国家973计划(2007CB935302);国家863计划(2007AA804114)资助课题
- 针对X射线透射光栅摄谱仪中的高线密度光栅,研究了采用电子束曝光和X射线曝光技术结合制作高线密度X射线透射光栅的工艺技术。首先利用电子束曝光和微电镀技术在镂空的薄膜上制备母光栅X射线掩模版,然后利用X射线曝光和微电镀技术小...
- 关键词：X射线透射光栅 电子束光刻 X射线光刻 高线密度光栅
- 阻变式存储器存储机理
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- 《物理》中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室 王永 管伟华 龙世兵 刘明 谢常青 出版年：2008
- 国家重点基础研究发展计划(批准号:2006CB302706);国家自然科学基金(批准号:90607022;90401002;90207004;60236010;60506005;60390071)资助项目
- 阻变式存储器(resistive random access memory,RRAM)是以材料的电阻在外加电场作用下可在高阻态和低阻态之间实现可逆转换为基础的一类前瞻性下一代非挥发存储器.它具有在32nm节点及以下取代现...
- 关键词：非挥发性 阻变式存储器(RRAM) 综述 空间电荷限制电流(SCLC) 细丝
- 氧化铝钝化在晶体硅太阳电池中的应用
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- 《微纳电子技术》中国科学院微电子研究所微波器件与集成电路研究室;中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室 吴大卫 贾锐 武德起 丁武昌 陈伟 陈晨 岳会会 刘新宇 陈宝钦 出版年：2011
- 国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目;攀登计划课题资助项目(1J2006CB604904);国家面上资助项目(110360676001);中国科学院知识创新工程领域前沿资助项目(5406SF053001)
- 首先,回顾了氧化铝钝化技术的发展历程,对制备氧化铝钝化薄膜的手段进行了总结,并且详细描述了氧化铝的材料性质和钝化的机理。其次,指出氧化铝薄膜的优点在于优异的场效应钝化特性和良好的化学钝化性质,因此可以应用于低掺和高掺p型...
- 关键词：硅表面钝化 氧化铝 原子层沉积 场效应钝化 烧结稳定性
- LCoS反射层的实验研究
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- 《液晶与显示》中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室;中国科学院长春光学精密机械与物理研究所激发态物理重点实验室 欧毅 宋玉龙 刘明 凌志华 出版年：2005
- 国家"973"计划资助项目(No.2003CB314703;2003CB314704)
- LCoS技术是硅基CMOS半导体集成电路技术和液晶显示技术相结合的新技术。铝膜作为LCoS的反射电极,要求有较高的反射率和电导率。采用电子束蒸发的方法,以高纯度的Al为靶材,硅片为衬底,制备了不同厚度的Al反射膜,并测量...
- 关键词：LCOS 电子束蒸发 反射率 电导率
- 纳米压印光刻模版制作技术
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- 《电子工业专用设备》中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成实验室 范东升 谢常青 陈大鹏 出版年：2005
- 973(G200036504);国家自然科学基金资助项目(60236010)
- 在下一代光刻技术中,光刻的成本越来越高,这使得工业界开始寻找新的技术。纳米压印作为非光学的下一代光刻技术,具有分辨率高、成本低、产率高等诸多优点,因而可能应用于将来的半导体制造中。同时,纳米压印也可以用于微机电系统(ME...
- 关键词：纳米压印 模版制作 防粘连处理
- 微纳加工技术在微纳电子器件领域的应用
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- 《物理》中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室 刘明 陈宝钦 谢常青 王丛舜 龙世兵 徐秋霞 李志钢 易里成荣 涂德钰 出版年：2006
- 国家自然科学基金(批准号:60276019;90207004;60236010;60290081)资助项目
- 微纳加工技术推动着集成电路不断缩小器件尺寸和提高集成度,光学光刻技术依然是目前的主流微纳加工技术,同时有多种替代技术如电子束直写、极紫外光刻和投影电子束技术,文章介绍了自上而下的微纳加工技术的进展及其在微纳器件研制的重要...
- 关键词：纳米加工 纳米器件 微纳加工技术 光学光刻技术
