文献类型：期刊文章

作　　者：朱效立[1] 马杰[1] 谢常青[1] 叶甜春[1] 刘明[1] 曹磊峰[2] 杨家敏[2] 张文海[2]

机构地区：[1]中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室,北京100029 [2]中国工程物理研究院高温高密度等离子等国家重点实验室,四川绵阳621900

出　　处：《光学学报》

基　　金：国家973计划(2007CB935302);国家863计划(2007AA804114)资助课题

年　　份：2008

卷　　号：28

期　　号：6

起止页码：1026-1030

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：20083611520865)、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：针对X射线透射光栅摄谱仪中的高线密度光栅,研究了采用电子束曝光和X射线曝光技术结合制作高线密度X射线透射光栅的工艺技术。首先利用电子束曝光和微电镀技术在镂空的薄膜上制备母光栅X射线掩模版,然后利用X射线曝光和微电镀技术小批量复制光栅。在国内首次完成了3333lp/mm X射线透射光栅的研制,栅线宽度为150nm,周期为300nm,金吸收体厚度为500nm。衍射效率标定的结果表明,该光栅的占空比合理、侧壁陡直,具有良好的色散特性,能够满足空间探测、同步辐射和变等离子诊断等多个领域的应用。

关 键 词：X射线透射光栅  电子束光刻 X射线光刻 高线密度光栅  

分 类 号：TN205]