文献类型：期刊文章

作　　者：朱效立[1] 马杰[1] 曹磊峰[2] 杨家敏[2] 谢常青[1] 刘明[1] 陈宝钦[1] 牛洁斌[1] 张庆钊[1] 姜骥[1] 赵珉[1] 叶甜春[1]

机构地区：[1]中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室,北京100029 [2]中国工程物理研究院激光聚变中心,绵阳621900

出　　处：《Journal of Semiconductors》

基　　金：国家重点基础研究发展规划(批准号:2007CB935302);国家高技术研究发展计划(批准号:2006AA843134);国家自然科学基金(批准号:90607022)资助项目~~

年　　份：2007

卷　　号：28

期　　号：12

起止页码：2006-2010

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EBSCO、EI(收录号：20081011136639)、IC、INSPEC、JST、RSC、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用电子束光刻、X射线光刻和微电镀技术,成功制作了面积为10mm×0.5mm,周期为500nm,占空比为1∶1,金吸收体厚度为430nm的可用于X射线衍射的大面积透射光栅.首先利用电子束光刻和微电镀技术制备基于镂空薄膜结构的X射线光刻掩模,然后利用X射线光刻经济、高效地复制X射线透射光栅.整个工艺流程分别利用了电子束光刻分辨率高和X射线光刻效率高的优点,并且可以得到剖面陡直的纳米级光栅线条.最后,测量了制作出的X射线透射光栅对波长为11nm同步辐射光的衍射峰,实验结果表明该光栅具有良好的衍射特性.

关 键 词：电子束光刻 透射光栅 X射线光刻 X射线衍射光学元件  

分 类 号：TN253]