文献类型：期刊文章

作　　者：欧毅[1] 宋玉龙[2] 刘明[1] 凌志华[2]

机构地区：[1]中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室,北京100029 [2]中国科学院长春光学精密机械与物理研究所激发态物理重点实验室,吉林长春130033

出　　处：《液晶与显示》

基　　金：国家"973"计划资助项目(No.2003CB314703;2003CB314704)

年　　份：2005

卷　　号：20

期　　号：6

起止页码：554-557

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、EBSCO、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：LCoS技术是硅基CMOS半导体集成电路技术和液晶显示技术相结合的新技术。铝膜作为LCoS的反射电极,要求有较高的反射率和电导率。采用电子束蒸发的方法,以高纯度的Al为靶材,硅片为衬底,制备了不同厚度的Al反射膜,并测量了在可见光范围内反射率曲线,分析了薄膜的致密性和电导率。实验结果表明,当Al层很薄时,膜的连续性较差,呈岛状或网状结构,膜的导电性不好;如果沉积较厚(1μm以上)则容易形成“铝丘”,即出现多晶态的A1分布,一方面使A1膜表面粗糙,降低其镜面反射率,同样也将严重影响Al膜的电学性能。选定50nm厚度Al膜作为LCoS的反射层为最佳。

关 键 词：LCOS 电子束蒸发 反射率 电导率

分 类 号：TN873.93] O484.4]