期刊文章详细信息
100nm分辨率的移相掩模技术
Phase-shifting Mask of 100 nm Resolution
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]中国科学院微电子所纳米加工与新器件集成技术实验室,北京100029
基 金：国家自然基金资助项目(60376020)
年 份：2003
期 号：4
起止页码：27-32
语 种：中文
收录情况：SCOPUS、普通刊
摘 要：介绍了移相掩模技术的基本原理,对几种主要的移相掩模技术进行了比较,指出了各种移相方式的特点和应用局限性,并针对100nm分辨率的技术节点,阐述了各种移相方式在应用中应该解决的问题。
关 键 词：分辨率 移相掩模 二元掩模 光刻 交替式 衰减式
分 类 号：TN305.7]
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