期刊文章详细信息
纳米压印光刻模版制作技术
Stamp Fabrication in Nanoimprint Lithography
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成实验室,北京100029
基 金：973(G200036504);国家自然科学基金资助项目(60236010)
年 份：2005
卷 号：34
期 号：2
起止页码：26-32
语 种：中文
收录情况：普通刊
摘 要：在下一代光刻技术中,光刻的成本越来越高,这使得工业界开始寻找新的技术。纳米压印作为非光学的下一代光刻技术,具有分辨率高、成本低、产率高等诸多优点,因而可能应用于将来的半导体制造中。同时,纳米压印也可以用于微机电系统(MEMS)和其他纳米结构的图形复制。纳米压印光刻技术主要包括热压印、紫外固化压印和微接触法压印。介绍了在这3种纳米压印光刻技术中,压印模版制作的制作工艺和模版表面的防粘连处理,并且讨论3种压印方法适用的不同领域。
关 键 词：纳米压印 模版制作 防粘连处理
分 类 号：TN305.7]
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