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四川大学物理科学与技术学院信息光学研究所 收藏

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研究主题:全息图    明胶    彩虹全息术    重铬酸盐    重铬酸盐明胶    

研究学科:机械类    电子信息类    核工程类    

被引量:227H指数:10WOS: 4 EI: 43 北大核心: 49 CSCD: 61

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67 条 记 录,以下是 1-10

二元光学元件制作误差分析与模拟 ( EI收录)
1
《光学学报》四川大学信息光学研究所;中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室 徐平 张晓春 郭履容 郭永康 周祥 杜春雷 周明宝  出版年:1996
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室资助;国家自然科学基金;国家教委博士点基金
从标量衍射理论出发,首先从理论上计算出多台阶二元光学元件发生深度误差时衍射效率的解析式;然后以4台阶和8台阶闪耀光栅为例,对二元光学元件套刻制作中的主要误差及其这些误差之间的相互影响进行了系统的分析和计算机模拟研究,模拟...
关键词:二元  光学元件 误差分析 闪耀光栅
一种新的真彩色彩虹全息术 ( EI收录)
2
《光学学报》四川大学信息光学研究所 范诚 江朝川 郭履容  出版年:1991
国家教委博士点基金
本文提出了一种新的真彩色彩虹全息术称为三维物体的色编码重现技术,其特点是:利用单波长激光对三原色激光所记录的三维漫反射物体的菲涅耳全息图进行编码,从而可用单波长激光器在同一种记录介质上一次曝光记录三维物体的真彩色彩虹全息...
关键词:真彩色 彩虹 全息术 色编码  重现  
液晶实时掩膜技术制作连续微光学元件 ( EI收录)
3
《光学学报》四川大学物理系信息光学研究中心 彭钦军 郭永康 陈波 刘世杰 曾阳素  出版年:2003
国家自然科学基金 ( 6 99780 14)资助课题。
提出制作连续微光学元件的一种新技术———液晶实时掩膜技术 ,阐述了其基本原理和制作方法。基于部分相干光成像理论 ,采用计算机模拟了用实时掩膜制作微透镜和微轴锥镜阵列的过程。同时建立了实验装置进行实验 ,用全色银盐干板 (...
关键词:制作  应用光学 实时掩膜  液晶显示器件 连续微光学元件  光刻
连续微光学元件在光刻胶上的面形控制 ( EI收录)
4
《光学学报》中国科学院光电所微细加工光学技术国家重点实验室;四川大学信息光学研究中心 曾红军 杜春雷 王永茹 白临波 邓启凌 陈波 郭履容 袁景和  出版年:2000
国家科委"九五"攻关项目资助
介绍了连续微光学元件在光刻胶上的面形控制方法。分析了光刻胶及显影液在制作二元和连续元件中所存在的差别 ;导出具有倒易关系的浮雕深度表达式和适用的范围 ,并以此指导面形的控制 ,对光刻胶进行适当的改造以适应连续微光学元件的...
关键词:连续微光学元件  光刻胶线性  面形控制 集成电路
用于惯性约束聚变束匀滑的完全连续相位板设计方法 ( EI收录)
5
《光学学报》四川大学信息光学研究中心 陈波 王菡子 韦辉 郭永康 郭履容  出版年:2001
针对惯性约束聚变束匀滑对连续相位板的需要 ,用改进的盖师贝格撒克斯通 (G S)算法 ,进行了完全连续相位板 (FCPP)设计方法的研究。在盖师贝格撒克斯通算法流程中 ,引入局部替代函数 ,设计出完全连续的深浮雕相位结构...
关键词:盖师贝格-撒克斯通(G-S)算法  相位奇点  完全连续相位板  惯性约束聚变 束匀滑  PCPP  G-S算法  设计  
激光直接光刻制作微透镜列阵的方法研究 ( EI收录)
6
《光学学报》中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室;四川大学信息光学研究所 杜春雷 林大键 冯伯儒 孙国良 徐平 郭履容  出版年:1996
介绍了利用激光直接光刻技术制作8相位台阶菲涅尔衍射微透镜列阵的工艺方法,并对元件的衍射效率及光刻过程中的制作误差进行了分析,透镜列阵在小形Shack-Hartmann波前传感器中得到了应用。
关键词:激光 直接  光刻 微透镜列阵 衍射光学元件
菲涅耳型衍射光学元件的研究 ( EI收录)
7
《光子学报》中国科学院光电技术研究所;四川大学信息光学研究所 杜春雷 郭履容 郭永康  出版年:1997
本文在衍射理论基础上,深入分析了菲涅耳型衍射光学元件的特性,针对连续及二元浮雕结构,建立了位相深度因子(M),波长匹配系数(α)与衍射效率的关系式,对影响衍射效率的因素进行了讨论.研究了设计与工艺的匹配问题,建立了数值孔...
关键词:菲涅耳型  衍射光学元件 衍射效率
深蚀刻二元光学元件 ( EI收录)
8
《光学学报》四川大学信息光学研究所;中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室 徐平 唐继跃 郭履容 郭永康 杨家发 姜念云 李展 杜春雷  出版年:1996
国家自然科学基金;中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室资助
提出一种新颖的、蚀刻位相深度超过2π的深蚀刻二元光学技术,并从理论上分析深蚀刻二元光学元件与衍射效率的关系,然后用计算机进行模拟与分析。
关键词:深刻蚀 衍射光学 二元光学元件
并行共焦三维检测方法的理论分析 ( EI收录)
9
《光学学报》浙江大学现代光学仪器国家重点实验室;四川大学信息光学研究中心 田维坚 陈波 郭履容 庞霖  出版年:1999
国家自然科学基金;中国博士后科学基金
从一般共焦系统的原理出发, 重点围绕并行共焦方法的三维检测原理, 通过引用三维点扩散函数和矩阵形式, 研究了并行共焦检测方法的理论问题, 确立了点阵并行共焦检测方法的检测过程。其结果表明, 并行共焦检测过程总的光场分布,...
关键词:并行共焦  三维检测  点扩散函数 矩阵形式
深蚀刻二元光学元件制作误差模拟 ( EI收录)
10
《中国激光》四川大学信息光学研究所 徐平 唐继跃 庞霖 郭履容 郭永康  出版年:1997
湖北省教委青年基金;国家自然科学基金
用计算机研究并给出了深蚀刻二元光学元件制作误差对衍射效率影响的规律;将深刻蚀二元光学元件与一般二元光学元件制作误差规律的不同之处进行了分析说明;
关键词:制作误差  计算机模拟 深刻蚀 二元光学元件
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