期刊文章详细信息
深蚀刻二元光学元件 ( EI收录)
Deep Etch Binary Optics Element
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]四川大学信息光学研究所 [2]中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
基 金：国家自然科学基金;中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室资助
年 份：1996
卷 号：16
期 号：12
起止页码：1796-1801
语 种：中文
收录情况：AJ、BDHX、BDHX1992、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：1997373737641)、JST、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：提出一种新颖的、蚀刻位相深度超过２π的深蚀刻二元光学技术，并从理论上分析深蚀刻二元光学元件与衍射效率的关系，然后用计算机进行模拟与分析。
关 键 词：深刻蚀 衍射光学 二元光学元件
分 类 号：TH74] O436.1[仪器类]
参考文献：
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