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期刊文章详细信息

液晶实时掩膜技术制作连续微光学元件  ( EI收录)  

LCD Real-Time Mask Technique for Fabrication of Continuous Microoptical Elements

  

文献类型:期刊文章

作  者:彭钦军[1] 郭永康[1] 陈波[1] 刘世杰[1] 曾阳素[1]

机构地区:[1]四川大学物理系信息光学研究中心,成都610064

出  处:《光学学报》

基  金:国家自然科学基金 ( 6 99780 14)资助课题。

年  份:2003

卷  号:23

期  号:2

起止页码:220-224

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX2000、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号:2003247503924)、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:提出制作连续微光学元件的一种新技术———液晶实时掩膜技术 ,阐述了其基本原理和制作方法。基于部分相干光成像理论 ,采用计算机模拟了用实时掩膜制作微透镜和微轴锥镜阵列的过程。同时建立了实验装置进行实验 ,用全色银盐干板 (Kodak 131)通过酶刻蚀得到口径为 118.7μm ,深为 1.32 2 μm的 5 6× 48的轴锥镜的列阵。

关 键 词:制作  应用光学 实时掩膜  液晶显示器件 连续微光学元件  光刻

分 类 号:TN201] TN305.7

参考文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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