文献类型：期刊文章

作　　者：曾红军[1] 杜春雷[1] 王永茹[1] 白临波[1] 邓启凌[1] 陈波[2] 郭履容[2] 袁景和[2]

机构地区：[1]中国科学院光电所微细加工光学技术国家重点实验室,成都610209 [2]四川大学信息光学研究中心,成都610064

出　　处：《光学学报》

基　　金：国家科委"九五"攻关项目资助

年　　份：2000

卷　　号：20

期　　号：5

起止页码：691-696

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX1996、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：介绍了连续微光学元件在光刻胶上的面形控制方法。分析了光刻胶及显影液在制作二元和连续元件中所存在的差别 ;导出具有倒易关系的浮雕深度表达式和适用的范围 ,并以此指导面形的控制 ,对光刻胶进行适当的改造以适应连续微光学元件的制作。本文还给出了实验验证 ,制作出了多种质量优良的连续微光学元件 ,并对典型元件的面形进行了评价。

关 键 词：连续微光学元件  光刻胶线性  面形控制 集成电路

分 类 号：TN405.98]