期刊文章详细信息
深蚀刻二元光学元件制作误差模拟 ( EI收录)
Fabricaion Errors Simulation of Deep Etched Binary Optics Elements
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]四川大学信息光学研究所
基 金：湖北省教委青年基金;国家自然科学基金
年 份：1997
卷 号：24
期 号：6
起止页码：536-542
语 种：中文
收录情况：AJ、BDHX、BDHX1996、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、INSPEC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：用计算机研究并给出了深蚀刻二元光学元件制作误差对衍射效率影响的规律；将深刻蚀二元光学元件与一般二元光学元件制作误差规律的不同之处进行了分析说明；
关 键 词：制作误差 计算机模拟 深刻蚀 二元光学元件
分 类 号：O438]
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