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深圳国家863计划材料表面工程技术研究开发中心 收藏

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研究主题:非平衡磁控溅射    TI    电弧离子镀    N    磁控溅射    

研究学科:自动化类    

被引量:77H指数:6WOS: 1 EI: 4 北大核心: 11 CSCD: 11

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33 条 记 录,以下是 1-10

离子渗氮新技术的研究现状
1
《热加工工艺》深圳国家863计划材料表面工程技术研究开发中心 龙发进 周祎 康光宇 李鑫鸿 耿漫  出版年:2007
广东省科技研究项目(2004B16001206)
为了克服传统离子渗氮的一些固有缺点,近些年来出现一些新的离子渗氮技术,如活性屏离子渗氮、等离子体源离子渗氮、离子注入离子渗氮等,本文简要介绍了这些新技术及其原理、特点,总结了这类技术的共性模型。其中,活性屏离子渗氮技术和...
关键词:离子渗氮 活性屏  等离子体源 离子注入
铝合金微弧氧化陶瓷膜性能及其影响因素探讨
2
《材料保护》深圳国家863计划材料表面工程技术研究开发中心 赵豪民 江俊灵  出版年:2005
微弧氧化是一个复杂的电化学过程,研究多种因素对氧化陶瓷膜层的影响,对良好陶瓷膜层的制备及相关产品的质量改善具有指导作用。为了说明微弧氧化过程中能量的实质作用,引入氧化功率概念,以LY12铝合金为样品,采用脉冲电源,在一定...
关键词:微弧氧化 工艺参数 膜层厚度  膜层硬度  
间规聚苯乙烯共混改性研究进展
3
《中国塑料》深圳国家863计划材料表面工程技术研究开发中心 康光宇 刘金成  出版年:2003
介绍了间规聚苯乙烯 (SPS)的特点 ,论述了间规聚苯乙烯共混改性的研究进展。详细介绍了SPS和聚苯醚共混 ,SPS和弹性体共混以及SPS和聚酰胺、聚酯等高聚物的共混改性 ,并展望了SPS的应用前景。
关键词:间规聚苯乙烯 共混 改性 聚合物合金
柱弧离子镀制备Ti/TiN/Ti(N,C)/TiC黑色硬质膜 ( EI收录)
4
《真空科学与技术学报》深圳国家863计划材料表面工程技术研究开发中心;深圳新南亚技术开发有限公司 马胜歌 姜翠宁  出版年:2006
深圳市科技计划项目资金资助(No.2004-K1-117)
利用自制的柱弧离子镀膜机,在不同硬度基体上制备了Ti/TiN/Ti(N,C)/TiC多层复合膜。膜呈深黑色,反射率小于14%,亮度值L*小于43,沉积速率约为0.78μm/h,表面分布较多液滴缺陷。膜的力学性能测试受基体...
关键词:黑色硬质膜  柱弧离子镀  TIC 多层膜
工艺参数对非平衡磁控溅射Ti/TiN/Ti(C,N)薄膜硬度的影响
5
《钢铁研究学报》东北大学机械工程与自动化学院;深圳国家863计划材料表面工程技术研究开发中心 张以忱 吴宇峰 巴德纯 马胜歌  出版年:2007
国家高新技术863计划资助项目(2001AA338010)
采用中频非平衡磁控溅射工艺,在316L不锈钢、高速钢和硬质合金3种基体材料上制备Ti/TiN/Ti(C,N)膜系的硬质薄膜。通过改变工作气氛、基体负偏压等工艺参数,对制备薄膜的硬度进行检测分析,结果表明:在Ti(C,N)...
关键词:非平衡磁控溅射 Ti(C,  N)薄膜  薄膜硬度  基体负偏压  
中频孪生靶非平衡磁控溅射制备Ti/TiN/Ti(N,C)黑色硬质膜
6
《真空与低温》深圳国家863计划材料表面工程技术研究开发中心;东北大学 马胜歌 吴宇峰 耿漫  出版年:2006
国家863计划资金项目(2001AA338010)资助
利用自制的等离子体增强型渗注镀复合处理设备上的非平衡磁控溅射功能,在不同硬度基底上制备了Ti/TiN/Ti(N,C)多层复合膜。膜呈深黑色,表面光滑平整,可见光区反射率在8.2%~10.2%之间,亮度L=38.01,沉积...
关键词:黑色硬质膜  非平衡磁控溅射 Ti(N,C)  中频反应溅射  孪生靶  
铝材微弧氧化功率与表面粗糙度的关系
7
《材料保护》深圳国家863计划材料表面工程技术研究开发中心 赵豪民 江俊灵 戴新江  出版年:2005
在实际工业应用中,对不同的产品表面粗糙度有不同的要求,因此,在利用表面处理技术对产品进行表面处理时,其对产品表面粗糙度的影响成为必须考虑的因素。采用微弧氧化技术,以LY12铝合金为试验样品,通过改变不同的微弧氧化功率,制...
关键词:微弧氧化 氧化功率  铝材 表面粗糙度
中频磁控溅射沉积DLC/TiAlN复合薄膜的结构与性能研究 ( EI收录)
8
《真空科学与技术学报》东北大学机械工程与自动化学院;深圳国家863计划材料表面工程技术研究开发中心 张以忱 巴德纯 于大洋 马胜歌  出版年:2008
国家863计划资助项目(No.2001AA338010)
采用中频非平衡磁控溅射沉积工艺,并施加霍尔离子源辅助沉积,在高速钢W18Cr4V及单晶硅基体上制备了梯度过渡的DLC/TiAlN复合薄膜。利用扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱仪(XPS)、显微硬度计、摩擦磨损仪等分析...
关键词:TIALN薄膜 DLC薄膜 非平衡磁控溅射 中频溅射  等离子辅助沉积  
非平衡磁控溅射结合电弧离子镀制备掺杂DLC硬质膜性能研究 ( EI收录)
9
《中国表面工程》东北大学机械学院;深圳国家863计划材料表面工程技术研究开发中心 于大洋 马胜歌 张以忱 徐路  出版年:2006
将非平衡磁控溅射和电弧离子镀工艺相结合,并使用霍尔离子源辅助,制备了过渡层为Cr、掺杂Ti和N的DLC薄膜。对DLC薄膜的表面形貌、内部结构、力学性能以及电学性能进行了分析测试,结果表明:膜层中含有sp2键和sp3键结构...
关键词:硬质膜 DLC 非平衡磁控溅射 电弧离子镀 霍尔离子源  
复合离子镀膜技术制备Cr+Ti+TiNC/TiNC+C/DLC膜性能研究
10
《核技术》深圳国家863计划材料表面工程技术研究开发中心;东北大学机械工程及自动化学院 马胜歌 于大洋 杨宏伟 张以忱  出版年:2008
深圳市科技计划项目资金(SY200609080027A)资助
结合中频孪生靶非平衡磁控溅射、电弧离子镀和霍尔离子源辅助沉积三种工艺,制备了Cr+Ti+TiNC/TiNC+C/DLC硬质膜。硬质膜呈深黑色,表面比较光滑,顶层为掺N的类金刚石(Diamond-like Carbon,D...
关键词:类金刚石膜 多层膜  非平衡磁控溅射 电弧离子镀 X射线光电子能谱仪  
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