文献类型：期刊文章

作　　者：马胜歌[1] 吴宇峰[2] 耿漫[1]

机构地区：[1]深圳国家863计划材料表面工程技术研究开发中心,广东深圳518029 [2]东北大学,辽宁沈阳110004

出　　处：《真空与低温》

基　　金：国家863计划资金项目(2001AA338010)资助

年　　份：2006

卷　　号：12

期　　号：1

起止页码：15-18

语　　种：中文

收录情况：ZGKJHX、普通刊

摘　　要：利用自制的等离子体增强型渗注镀复合处理设备上的非平衡磁控溅射功能,在不同硬度基底上制备了Ti/TiN/Ti(N,C)多层复合膜。膜呈深黑色,表面光滑平整,可见光区反射率在8.2%～10.2%之间,亮度L=38.01,沉积速率约为1.21μmh。膜的硬度测试结果受基底影响较大,YW2硬质合金基底上制备0.85μm厚的黑色硬质膜显微硬度Hv(25g)=2936。膜的结合力不高,有待进一步优化工艺加以解决。

关 键 词：黑色硬质膜  非平衡磁控溅射 Ti(N,C)  中频反应溅射  孪生靶  

分 类 号：TB43]