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复合离子镀膜技术制备Cr+Ti+TiNC/TiNC+C/DLC膜性能研究
Properties of Cr+Ti+TiNC/TiNC+C/DLC films prepared by composite ion plating
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]深圳国家863计划材料表面工程技术研究开发中心,深圳518029 [2]东北大学机械工程及自动化学院,沈阳110004
基 金:深圳市科技计划项目资金(SY200609080027A)资助
年 份:2008
卷 号:31
期 号:2
起止页码:111-114
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2004、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、IC、INSPEC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:结合中频孪生靶非平衡磁控溅射、电弧离子镀和霍尔离子源辅助沉积三种工艺,制备了Cr+Ti+TiNC/TiNC+C/DLC硬质膜。硬质膜呈深黑色,表面比较光滑,顶层为掺N的类金刚石(Diamond-like Carbon,DLC)膜,中间层为含C的TiNC,底层为含Ti和Cr的TiNC,力学性能良好。
关 键 词:类金刚石膜 多层膜 非平衡磁控溅射 电弧离子镀 X射线光电子能谱仪
分 类 号:O484.4] TB43[物理学类]
参考文献:
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