期刊文章详细信息
离子渗氮新技术的研究现状
Review of Recently Developed Plasma Nitriding Technologies
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]深圳国家863计划材料表面工程技术研究开发中心,广东深圳518029
基 金：广东省科技研究项目(2004B16001206)
年 份：2007
卷 号：36
期 号：6
起止页码：61-64
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX2004、CSCD、CSCD2011_2012、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：为了克服传统离子渗氮的一些固有缺点,近些年来出现一些新的离子渗氮技术,如活性屏离子渗氮、等离子体源离子渗氮、离子注入离子渗氮等,本文简要介绍了这些新技术及其原理、特点,总结了这类技术的共性模型。其中,活性屏离子渗氮技术和等离子体源离子渗氮技术有着明显的设备和工艺优势,可能成为离子渗氮技术的发展方向。
关 键 词：离子渗氮 活性屏 等离子体源 离子注入
分 类 号：TG156.8]
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