文献类型：期刊文章

作　　者：于大洋[1] 马胜歌[2] 张以忱[1] 徐路[2]

机构地区：[1]东北大学机械学院,沈阳110004 [2]深圳国家863计划材料表面工程技术研究开发中心,深圳518029

出　　处：《中国表面工程》

年　　份：2006

卷　　号：19

期　　号：6

起止页码：43-46

语　　种：中文

收录情况：AJ、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、EI、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、普通刊

摘　　要：将非平衡磁控溅射和电弧离子镀工艺相结合,并使用霍尔离子源辅助,制备了过渡层为Cr、掺杂Ti和N的DLC薄膜。对DLC薄膜的表面形貌、内部结构、力学性能以及电学性能进行了分析测试,结果表明:膜层中含有sp2键和sp3键结构,硬度达到HV(20g)2600以上,摩擦因数接近0.1,电阻高于2MΩ。

关 键 词：硬质膜 DLC 非平衡磁控溅射 电弧离子镀 霍尔离子源  

分 类 号：O484.4] TB43[物理学类]