北京化学试剂研究所 
研究主题：化学试剂 试剂 光刻胶 电解液 无机化合物
研究学科：电子信息类 电气类 轻工类 机械类 生物科学类
- 卡尔费休法测定水分的发展及其在某些领域中的应用
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- 《化学试剂》北京化学试剂研究所 孟蓉 尚汝田 出版年：2001
- 关键词：卡尔费休容量滴定法 卡尔费休库仑法 应用 水分 测定 化学分析 正型光刻胶 负型光刻胶 锂电池 电解液
- 超净高纯试剂的现状、应用、制备及配套技术
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- 《化学试剂》北京化学试剂研究所 穆启道 出版年：2002
- 关键词：超净高纯试剂 应用 制备 湿法清洗 半导体 刻蚀
- 光刻胶的发展及应用
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- 《精细与专用化学品》北京化学试剂研究所 郑金红 出版年：2006
- 关键词：集成电路 光刻胶 感光剂
- 锂离子电池电解液
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- 《新材料产业》北京化学试剂研究所 廖红英 程宝英 郝志强 出版年：2003
- 关键词：锂离子电池 电解液 有机溶剂 添加剂 性能指标 控制 性能
- ULSI用193nm光刻胶的研究进展 ( EI收录)
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- 《精细化工》北京化学试剂研究所有机室 郑金红 黄志齐 文武 出版年：2005
- 关键词：193nm 光刻胶 主体树脂 光致产酸剂 酸敏基团 溶解抑制剂 碱性添加剂
- 248nm深紫外光刻胶 ( EI收录)
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- 《感光科学与光化学》北京化学试剂研究所 郑金红 黄志齐 侯宏森 出版年：2003
- 关键词：化学增幅 KRF激光 深紫外光刻 248 nm光刻胶 主体树脂 酸催化 光致产酸剂
- 集成电路制作技术的发展与超净高纯试剂的应用
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- 《集成电路应用》北京化学试剂研究所 穆启道 出版年：2003
- 关键词：集成电路 制作技术 超净高纯试剂 应用 发展
- ICP-MS法测定电子级高纯异丙醇中痕量金属杂质
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- 《化学试剂》北京化学试剂研究所 孟蓉 郑春丽 童淑丽 出版年：2004
- 关键词：电子级高纯异丙醇 痕量分析 金属杂质 电感耦合等离子体-质谱
- 液晶显示材料的现状及其发展动向
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- 《液晶通讯》北京化学试剂研究所 樊邦棣 出版年：1994
- 关键词：液晶显示 液晶材料 综述
- 溶胶-凝胶法制备光波导薄膜及性质的研究 ( EI收录)
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- 《光子学报》中科院半导体研究所光电子研究发展中心;北京化学试剂研究所;兰州大学物理科学与技术学院 姜永睿 胡雄伟 杨沁清 王红杰 杨澜 郑金红 谢二庆 出版年：2004
- 关键词：光敏性溶胶一凝胶 SIO2薄膜 折射率 红外光谱 波导
