期刊文章详细信息
ULSI用193nm光刻胶的研究进展 ( EI收录)
Progress of 193 nm Photoresist for ULSI Supporting Materials
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]北京化学试剂研究所有机室,北京100022
基 金：国家 863计划项目(2002AA3Z1330)~~
年 份：2005
卷 号：22
期 号：5
起止页码：348-353
语 种：中文
收录情况：AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：从193nm光刻胶的各个组分,如:主体树脂、光致产酸剂、溶解抑制剂、碱性添加剂以及存在的问题和解决途径等多个方面综述了193nm深紫外光刻胶的发展与现状。
关 键 词：193nm 光刻胶 主体树脂 光致产酸剂 酸敏基团 溶解抑制剂 碱性添加剂
分 类 号：O64]
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