期刊文章详细信息
248nm深紫外光刻胶 ( EI收录)
EVOLUTION AND PROGRESS OF DEEP UV 248 nm PHOTORESISTS
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]北京化学试剂研究所,北京100022
年 份：2003
卷 号：21
期 号：5
起止页码：346-356
语 种：中文
收录情况：AJ、BDHX、BDHX2000、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、INSPEC、JST、PROQUEST、SCIE、SCOPUS、ZGKJHX、ZMATH、ZR、核心刊
摘 要：本文从化学增幅技术的产生,深紫外248nm胶主体树脂及PAG发展历程、溶解抑制剂、存在的工艺问题及解决途径多个方面综述了深紫外248nm胶的发展与进步.
关 键 词：化学增幅 KRF激光 深紫外光刻 248 nm光刻胶 主体树脂 酸催化 光致产酸剂
分 类 号：TQ577]
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