期刊文章详细信息
光刻胶的发展及应用
Development Trends and Market of Photoresist
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]北京化学试剂研究所,北京100022
年 份：2006
卷 号：14
期 号：16
起止页码：24-30
语 种：中文
收录情况：CAS、普通刊
摘 要：主要介绍了国内外光刻胶的发展历程及应用情况,分析了国内外光刻胶市场状况及未来走向,并在此基础上阐述了我国光刻胶今后的研发重点及未来的发展方向。
关 键 词：集成电路 光刻胶 感光剂
分 类 号：TN304.055]
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