期刊文章详细信息
集成电路制作技术的发展与超净高纯试剂的应用
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]北京化学试剂研究所,100022
年 份：2003
卷 号：20
期 号：2
起止页码：56-60
语 种：中文
收录情况：普通刊
摘 要：本文根据集成电路制作技术的不同发展阶段对超净高纯试剂的不同要求,阐述了超净高纯试剂的应用、需求及发展状况。
关 键 词：集成电路 制作技术 超净高纯试剂 应用 发展
分 类 号：TN405]
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