文献类型：期刊文章

作　　者：姜永睿[1] 胡雄伟[1] 杨沁清[1] 王红杰[1] 杨澜[2] 郑金红[2] 谢二庆[3]

机构地区：[1]中科院半导体研究所光电子研究发展中心,北京100083 [2]北京化学试剂研究所,北京100022 [3]兰州大学物理科学与技术学院,兰州730000

出　　处：《光子学报》

基　　金：国家自然科学基金 (批准号 :6 988970 1);国家重点基础研究发展规划 (No.G2 0 0 0 0 36 6 0 2 )资助项目

年　　份：2004

卷　　号：33

期　　号：9

起止页码：1140-1143

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2000、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、INSPEC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用有机改性硅酸盐制备了光敏性溶胶 -凝胶 ,并在凝胶中加入四丙氧基锆作为调节折射率的材料 ;用该凝胶在硅片上提拉成膜 .为了增加薄膜与硅片的粘附性 ,成膜前先用干氧热氧化法在硅片上生长了一层厚度约为 15 0 0 的二氧化硅 ;样品的原子力相片表明薄膜的表面非常平整 ,在 5× 5 μm2 的范围内最大表面起伏只有 0 .6 5 7nm 利用波导阵列掩膜版 ,对制备的薄膜在紫外光波段下曝光 ,得到了表面平坦、侧墙光滑、陡直的沟道波导阵列 研究发现 :紫外曝光时间和坚膜时的后烘温度都会使薄膜的折射率增大 .通过对样品红外吸收谱的分析 。

关 键 词：光敏性溶胶一凝胶  SIO2薄膜 折射率 红外光谱 波导

分 类 号：TN252]