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武汉大学物理科学与技术学院加速器实验室 收藏

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研究主题:加速器    离子注入机    离子注入    离子源    中频磁控溅射    

研究学科:核工程类    电子信息类    电气类    

被引量:77H指数:4WOS: 4 EI: 13 北大核心: 16 CSCD: 16

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44 条 记 录,以下是 1-10

TiO_2薄膜的制备及结构研究 ( EI收录)
1
《Journal of Semiconductors》武汉大学物理系加速器实验室 孟宪权 王君 何磊 范湘军  出版年:1999
本文探讨了用平面磁控溅射法制备TiO2薄膜.研究了TiO2薄膜结构随溅射条件(衬底温度、氧分压、工作气压)的变化.用X射线衍射(XRD)测薄膜结构,用X射线光电子能谱(XPS)测薄膜钛氧成分比.得到了制备金红石相和锐钛矿...
关键词:二氧化钛薄膜 制备  结构  
用于发动机活塞环表面涂层的CrN薄膜 ( EI收录)
2
《中国表面工程》武汉大学加速器实验室 陈涛 王泽松 周霖 邓建伟 田灿鑫 何俊 刘传胜 付德君  出版年:2010
工信部国家重大专项资助2009ZX04012-032
设计了一套电子源辅助中频孪生非平衡磁控溅射装置,在单晶硅、高速钢、硬质合金衬底上制备了CrN,研究了气体流量、衬底偏压、溅射功率对薄膜结构和性能的影响。X射线衍射表明,在N2/(N2+Ar)比例低于60%时,CrN薄膜呈...
关键词:CRN 中频磁控溅射 活塞环
离子源增强电弧离子镀活塞环表面CrN涂层的制备 ( EI收录)
3
《中国表面工程》岭南师范学院物理科学与技术学院;广州铁路职业技术学院机械与电子学院;武汉大学加速器实验室 田灿鑫 刘怡飞 李助军 邹伟全 杨兵 付德君  出版年:2017
国家自然科学基金(11405117);广东省高等学校优秀青年教师培养项目(YQ2015208);广州市高校创新创业教育项目(2017244210)~~
为了寻求发动机核心部件活塞环上电镀硬铬的替代技术,采用自行设计的离子源增强阴极电弧离子镀系统,在W18Cr4V高速钢试块上制备了不同厚度的CrN涂层,用XRD、SEM分析涂层的晶体结构、表面形貌和厚度;利用显微硬度计和球...
关键词:阴极电弧离子镀  CRN涂层 摩擦因数  珩磨
中频磁控溅射制备AlN薄膜
4
《核技术》武汉大学加速器实验室 任克飞 阴明利 邹长伟 付德君  出版年:2009
国家自然科学基金(10675095;10875091)资助
设计了一套阳极层离子源辅助中频磁控溅射装置,并在Si(111)衬底上沉积AlN薄膜。用X射线衍射、原子力显微镜和扫描电镜分析了AlN薄膜的结构、形貌和成分。在优化的实验条件下制备的AlN薄膜具有较强的(002)衍射峰,其...
关键词:中频磁控溅射 ALN 阳极层离子源  
离子源辅助中频磁控溅射法在活塞环表面沉积CrN涂层 ( EI收录)
5
《粉末冶金材料科学与工程》武汉大学加速器实验室 闫少健 王玲玲 林宝珠 刘传胜 田灿鑫 王泽松 付德君  出版年:2010
国家科技重大专项(2009ZX04012-032)
用热丝弧光放电离子源辅助的中频磁控溅射装置在单晶硅和渗氮钢质活塞环上沉积CrN涂层,并用X射线衍射、原子力显微镜和电子显微镜测量涂层的微结构,用显微硬度计和球盘式摩擦磨损仪测量涂层的硬度和摩擦性能。与常规的中频磁控溅射法...
关键词:中频磁控溅射 CRN 离子源 显微硬度 摩擦因数  
多弧离子镀制备的CrTiAlN涂层的结构和摩擦学性能 ( EI收录)
6
《粉末冶金材料科学与工程》武汉大学加速器实验室 刘传胜 闫少健 田灿鑫 杨兵 付德君  出版年:2010
国家科技重大专项(2009ZX04012-032)
用自行设计的多靶阴极电弧离子镀系统在单晶硅和硬质合金衬底上沉积CrTiAlN硬质涂层,用X射线衍射、X射线光电子能谱和扫描电镜系统研究衬底偏压和N2气分压对CrTiAlN涂层结构、形貌和摩擦学性能的影响。结果表明CrTi...
关键词:多弧离子镀 显微硬度 表面形貌 摩擦因数  
Mn注入CdTe晶体的物理性质及其结构研究 ( EI收录)
7
《核技术》武汉大学物理科学与技术学院加速器实验室 何俊 李梦 郭立平 刘传胜 付德君  出版年:2008
国家自然科学基金(10675095)资助
用离子注入法制备了Mn掺杂的CdTe,Mn离子能量为200keV,X射线衍射测得注入样品的衍射半高宽为由48arcsec变为146 arcaec,X射线光电子能谱分析样品表明,由于注入Mn离子置换了Cd离子,形成了Mn-...
关键词:CDTE MN 离子注入 阴极荧光  
中频磁控溅射制备GaN薄膜 ( EI收录)
8
《核技术》武汉大学物理学院加速器实验室 丁咚 阴明利 邹长伟 郭立平 付德君  出版年:2008
采用中频磁控溅射技术,以金属Ga为靶材料,在Si(111)衬底上形成了GaN薄膜,研究了溅射压强、衬底温度等对GaN薄膜结构和成分的影响。发现沉积气压为0.4~1.0Pa时,薄膜呈GaN(002)取向,气压大于1.0Pa...
关键词:中频磁控溅射 GAN X射线衍射 沉积速率
多弧-磁控溅射法制备Ti-Si-N纳米复合涂层及涂层的结构和力学性能 ( EI收录)
9
《粉末冶金材料科学与工程》武汉大学加速器实验室;武汉大学动力与机械学院 刘传胜 杨种田 杨兵 田灿鑫 付德君  出版年:2010
国家科技重大专项(2009ZX04012-032);国家自然科学基金资助项目(50905130)
用内外靶配置的多弧-磁控溅射技术在单晶硅和硬质合金上制备Ti-Si-N纳米复合涂层,研究衬底偏压和Si靶溅射电流对涂层结构和力学性能的影响,经过实验参数优化,在偏压为-150 V、Si靶电流为15 A的沉积条件下,得到S...
关键词:多弧离子镀 中频磁控溅射 TI-SI-N 纳米复合涂层
H-800透射电镜的修复和与离子注入机及串列加速器联机
10
《电子显微学报》武汉大学物理科学与技术学院加速器实验室 郭立平 何俊 余益飞 杨世柏 刘传胜 叶明生 范湘军 付德君  出版年:2008
国家自然科学基金重点项目(No.10435060)~~
为建立一套离子注入机和串列加速器-电镜联机装置,对停止运行多年的H-800透射电镜进行了修复,并通过适当改造和防震措施,实现了与离子注入机和串列加速器的联机,可以在离子注入现场原位研究材料微结构的演化过程,为在我国深入开...
关键词:原位透射电子显微镜  加速器-电镜联机  离子注入 原位观测  
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