文献类型：期刊文章

作　　者：刘传胜[1] 闫少健[1] 田灿鑫[1] 杨兵[1] 付德君[1]

机构地区：[1]武汉大学加速器实验室,武汉430072

出　　处：《粉末冶金材料科学与工程》

基　　金：国家科技重大专项(2009ZX04012-032)

年　　份：2010

卷　　号：15

期　　号：6

起止页码：554-559

语　　种：中文

收录情况：EI(收录号：20111213768341)、IC、SCOPUS、普通刊

摘　　要：用自行设计的多靶阴极电弧离子镀系统在单晶硅和硬质合金衬底上沉积CrTiAlN硬质涂层,用X射线衍射、X射线光电子能谱和扫描电镜系统研究衬底偏压和N2气分压对CrTiAlN涂层结构、形貌和摩擦学性能的影响。结果表明CrTiAlN涂层为面心立方CrN和TiAlN的复合涂层。衬底偏压、N2气分压对涂层的表面形貌、显微硬度和抗磨损性能有较大影响,在氮气分压为5.0 Pa、衬底偏压为-200 V的优化条件下,得到表面光滑的CrTiAlN涂层,涂层硬度为29 GPa,涂层对氮化硅摩擦副的摩擦因数为0.37,沉积速率3.8μm/h。

关 键 词：多弧离子镀 显微硬度 表面形貌 摩擦因数  

分 类 号：TG174.44]