文献类型：期刊文章

作　　者：刘传胜[1] 杨种田[2] 杨兵[1] 田灿鑫[1] 付德君[1]

机构地区：[1]武汉大学加速器实验室,武汉430072 [2]武汉大学动力与机械学院,武汉430072

出　　处：《粉末冶金材料科学与工程》

基　　金：国家科技重大专项(2009ZX04012-032);国家自然科学基金资助项目(50905130)

年　　份：2010

卷　　号：15

期　　号：6

起止页码：543-548

语　　种：中文

收录情况：EI(收录号：20111213768339)、IC、SCOPUS、普通刊

摘　　要：用内外靶配置的多弧-磁控溅射技术在单晶硅和硬质合金上制备Ti-Si-N纳米复合涂层,研究衬底偏压和Si靶溅射电流对涂层结构和力学性能的影响,经过实验参数优化,在偏压为-150 V、Si靶电流为15 A的沉积条件下,得到Si的原子分数为6.3%的Ti-Si-N纳米复合涂层。X射线衍射、X射线光电子能谱和透射电镜分析表明,涂层中含有晶态TiN和非晶Si3N4,纳米尺寸的TiN颗粒镶嵌在非晶Si3N4基体结构中。纳米硬度计测试表明涂层的显微硬度为40 GPa,摩擦学实验表明其摩擦因数为0.89,可满足Ti-Si-N纳米复合涂层的工业化应用要求。

关 键 词：多弧离子镀 中频磁控溅射 TI-SI-N 纳米复合涂层

分 类 号：TG174.44]