期刊文章详细信息
TiO_2薄膜的制备及结构研究 ( EI收录)
Investigation on Preparation and Structures of TiO 2 Thin Film
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]武汉大学物理系加速器实验室
出 处：《Journal of Semiconductors》
年 份：1999
卷 号：20
期 号：5
起止页码：395-399
语 种：中文
收录情况：AJ、BDHX、BDHX1996、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EBSCO、EI、IC、INSPEC、JST、RSC、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：本文探讨了用平面磁控溅射法制备ＴｉＯ２薄膜．研究了ＴｉＯ２薄膜结构随溅射条件（衬底温度、氧分压、工作气压）的变化．用Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）测薄膜结构，用Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ）测薄膜钛氧成分比．得到了制备金红石相和锐钛矿相ＴｉＯ２薄膜的最佳工艺参数．
关 键 词：二氧化钛薄膜 制备 结构
分 类 号：TN304.21] TN304.055
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