西安工业大学光电工程学院光电微系统研究所 
研究主题：虚拟仪器 等离子体刻蚀 刻蚀速率 腐蚀速率 键合
研究学科：电子信息类 机械类 自动化类 交通运输类
- 基于压电陶瓷的激光谐振腔长控制技术
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- 《兵工自动化》西安工业大学光电微系统研究所 谢国兵 刘卫国 高爱华 出版年：2012
- 关键词：激光谐振腔长 压电陶瓷 非线性校正 虚拟仪器 激光频率
- 线性渐变滤光片透过率实时测量系统
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- 《西安工业大学学报》西安工业大学光电微系统研究所 刘卫国 孙鑫 高爱华 王越 出版年：2009
- 关键词：线性渐变滤光片 透过率 虚拟仪器 相关检测
- 基于直方图的红外图像互补伪彩色编码处理
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- 《激光与红外》西安工业大学光电微系统研究所 秦文罡 高爱华 刘卫国 出版年：2009
- 关键词：红外图像 互补伪彩色编码 直方图分析 DSP
- 超薄LiTaO_3晶片的键合减薄技术
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- 《应用光学》西安工业大学光电微系统研究所 刘军汉 刘卫国 出版年：2007
- 关键词：红外热释电探测器 LiTaO3晶片 键合减薄 热释电系数
- 直流磁控溅射制备氧化钒薄膜
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- 《光学技术》西安工业大学光电微系统研究所 杨旭 蔡长龙 周顺 刘欢 出版年：2010
- 关键词：直流磁控溅射 氧化钒薄膜 电阻温度系数
- 硅深刻蚀中掩蔽层材料刻蚀选择比的研究
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- 《半导体光电》西安工业大学光电微系统研究所 蔡长龙 马睿 刘卫国 刘欢 周顺 出版年：2009
- 关键词：等离子体刻蚀 掩蔽层材料 刻蚀速率 选择比
- 高吸收型滤光片透过率均匀性测试系统
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- 《应用光学》西安工业大学光电微系统研究所 王越 刘卫国 高爱华 孙鑫 出版年：2010
- 关键词：高吸收型滤光片 透过率均匀性 虚拟仪器
- 单晶热释电探测器混合集成制造方法研究
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- 《应用光学》西安工业大学光电微系统研究所 金娜 刘卫国 出版年：2010
- 关键词：各向异性导电膜 多传感器 混合集成 热释电探测器
- 用于SAW器件制造的键合减薄技术
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- 《压电与声光》西安工业大学光电微系统研究所 程进 刘卫国 刘欢 郭伟进 出版年：2013
- 关键词：铌酸锂(LiNbO3)晶片 键合减薄 声表面波(SAW)器件 抛光
- Si材刻蚀速率的工艺研究
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- 《半导体技术》西安工业大学光电微系统研究所 蔡长龙 马睿 周顺 刘欢 刘卫国 出版年：2008
- 关键词：硅 等离子体刻蚀 刻蚀速率 工艺参数
