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期刊文章详细信息

超薄LiTaO_3晶片的键合减薄技术    

Ultrathin LiTaO_3 wafer prepared by wafer bonding and mechanical thinning processes

  

文献类型:期刊文章

作  者:刘军汉[1] 刘卫国[1]

机构地区:[1]西安工业大学光电微系统研究所

出  处:《应用光学》

年  份:2007

卷  号:28

期  号:6

起止页码:769-772

语  种:中文

收录情况:AJ、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、普通刊

摘  要:在制造红外热释电探测器阵列过程中,需要利用超薄钽酸锂(LiTaO3)晶片作为红外热释电探测器件的敏感层。通常LiTaO3晶片的厚度远厚于红外热释电探测器件要求的厚度,所以需要采用键合减薄技术对LiTaO3晶片进行加工处理。键合减薄技术主要包括:苯并环丁烯(BCB)键合、铣磨、抛光、加热剥离、刻蚀BCB。加工后得到面积为10 mm×10 mm、厚度为25μm的超薄单晶LiTaO3薄膜,晶片厚度、表面粗糙度和面形精度比较理想。测得了LT晶片减薄后的热释电系数为1.6×10-4Cm-2K-1。得到的单晶LiTaO3薄膜满足红外热释电探测器敏感层的要求。

关 键 词:红外热释电探测器  LiTaO3晶片  键合减薄  热释电系数

分 类 号:TN304.055]

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同被引文献:

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