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北京京东方光电科技有限公司 收藏

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研究主题:显示装置    基板    显示面板    电极    薄膜晶体管    

研究学科:自动化类    电子信息类    电气类    机械类    经济学类    

被引量:334H指数:9WOS: 45 EI: 10 北大核心: 66 CSCD: 57

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10,287 条 记 录,以下是 1-10

一种TFT-LCD Vertical Block Mura的研究与改善
1
《液晶与显示》北京京东方光电科技有限公司 吴洪江 王威 龙春平  出版年:2007
北京市科委科技计划资助项目(No.D0306006000091)
在TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display)以及其他显示器件产品中,Mura是一种比较常见的不良现象,它可以直接影响到产品的画面品质。文章结合生产工艺的实际情...
关键词:TFT-LCD Mura  抖动 耦合电容 画面品质
HR新角色——业务合作伙伴(HRBP)
2
《人力资源管理》北京京东方光电科技有限公司人力资源部 陈岩 陈雷川  出版年:2013
人力资源要成为业务的驱动力,真正实现战略人力资源管理的目标,关键是人力资源自身的运营模式从职能导向转变为业务导向。本文从战略性人力资源转型的目标与方向、运营模式导入,从战略性人力资源组织设计角度入手,着重分析了HR的新角...
关键词:战略性人力资源管理 人力资源转型 业务合作伙伴能力素质  
TFT-LCD取向层工艺及其关键参数
3
《现代显示》中国电子科技大学;北京京东方光电科技有限公司 车春城 王丹 李军建  出版年:2006
综述了国内最先进的第5代TFT-LCD生产线的取向膜工艺。并探讨了各取向膜工艺参数对取向膜厚度和预倾角大小的影响,从而根据产品设计需要改变工艺参数指导实际生产。
关键词:取向层 聚酰亚胺膜 涂布  摩擦  膜厚 预倾角
非晶硅TFT栅界面层氮化硅薄膜性能的研究 ( EI收录)
4
《真空科学与技术学报》北京京东方光电科技有限公司 谢振宇 龙春平 邓朝勇 林承武  出版年:2007
采用傅里叶变换红外光谱仪、椭偏仪和YAF-5000M等测试仪器,对薄膜晶体栅界面层的键结构及含量、光学性能、物理性能以及晶体管导电性能进行分析研究。重点讨论了键含量与薄膜禁带宽度和介电常数的关系。结果表明:提高栅界面层N...
关键词:栅界面层  氮化硅 光禁带宽度  介电常数 导通电流  
(Al,Zr)共掺杂ZnO透明导电薄膜的结构以及光电性能研究
5
《液晶与显示》北京京东方光电科技有限公司;北京科技大学冶金与生态工程学院 薛建设 林炜 马瑞新 康勃 吴中亮  出版年:2007
北京市科委科技计划资助项目(No.D0306006000091;No.D0304002000021)
用射频磁控溅射法在玻璃衬底上氩气气氛中制备出(Al,Zr)共掺杂的ZnO透明导电薄膜,研究了不同Zr掺杂浓度和薄膜厚度ZnO薄膜的结构、电学和光学特性。结果表明,在最佳沉积条件下我们制备出了具有(002)单一择优取向的多...
关键词:氧化锌  透明导电薄膜 电阻率 透光率 射频磁控溅射
TFT-LCD面影像残留改善研究
6
《液晶与显示》清华大学电子工程系;北京京东方光电科技有限公司 彭毅雯 徐伟 罗毅 韩彦军  出版年:2012
影像残留是一种TFT-LCD屏的固有特性。主要是由于长时间显示静态画面时液晶材料的极化敏感性造成的。这种极化影响了液晶材料的光学特性,并阻止液晶分子完全恢复到正常松弛状态。本文主要探讨了通过改变TFT设计来改善面影像残留...
关键词:液晶显示器 影像残留  存储电容  
低功耗液晶电视LED背光源设计
7
《液晶与显示》北京京东方光电科技股份有限公司 华广胜 布占场 郑效盼 李智 孙彦军 王贺陶 王伯长 王飞 颜凯 鹿堃  出版年:2011
通过合理选材并优化机械结构,设计了一款低功耗的118cm(47in)LED背光源。对膜材进行筛选,采用1层扩散膜、2层棱镜膜和1层双层增亮膜(DBEF)进行搭配,保证了背光源的亮度。根据试验确定了LED之间的距离、LED...
关键词:低功耗 LED背光 光学膜材  机械结构
基于TRIZ理论的LED背光源散热研究
8
《液晶与显示》北京京东方光电科技有限公司 雷嗣军 马青 尹大根 尚飞 柳奉烈  出版年:2012
介绍了TRIZ理论的基本原理和方法,运用矛盾冲突矩阵对液晶显示器LED背光源的散热问题进行了分析。由于LED背光源散热问题属于物理矛盾,在结合TRIZ理论科学效应和现象知识库的基础上,提出了基于条件分离的LED背光源散热...
关键词:发明问题解决理论 LED背光源 散热 半导体制冷
未确认Mura分析及改善对策
9
《液晶与显示》清华大学电子工程系;北京京东方光电科技有限公司 徐伟 彭毅雯 肖光辉  出版年:2011
未确认Mura是一种能够影响TFT-LCD画面品质的不良。文章对未确认Mura不良进行了详细的分析,认为扇形区域出现有源层残留是导致未确认Mura不良发生的原因,介绍了一种通过变更曝光工艺条件来解决此种不良的方法,并通过...
关键词:未确认Mura  扇形区域  有源层残留  曝光工艺条件  
TFT-LCD生产中毛刷清洗工艺的研究
10
《现代显示》北京京东方光电科技有限公司 刘锋 于凯 李相津 李正蘍 李斗熙  出版年:2007
以玻璃基板表面残留的各种微粒(Particles)的去除率为依据,研究TFT-LCD生产清洗工艺中毛刷的旋转方向、旋转速度和毛刷相对玻璃的压入量等因素对玻璃基板表面particles清洗效果的影响,探讨这些因素的作用机理...
关键词:TFT-LCD 清洗  毛刷 Particle去除率  
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