文献类型：期刊文章

作　　者：吴洪江[1] 王威[1] 龙春平[1]

机构地区：[1]北京京东方光电科技有限公司,北京100176

出　　处：《液晶与显示》

基　　金：北京市科委科技计划资助项目(No.D0306006000091)

年　　份：2007

卷　　号：22

期　　号：4

起止页码：433-439

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、EBSCO、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：在TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display)以及其他显示器件产品中,Mura是一种比较常见的不良现象,它可以直接影响到产品的画面品质。文章结合生产工艺的实际情况,采用MM,CD,EPM,SEM,FIB等检测设备,对一种Vertical Block Mura进行了大量的实验测试、数据分析和理论研究工作,特别是对其产生的原因创新性地提出了两种方向上的理论观点。通过加强设备科学管理监控,减小耦合电容效应等一系列改善措施,产品质量得到了很大程度的提升,Vertical Block Mura从改善前的26.1%降到了1.3%,从而使Vertical Block Mura得以改善,很大程度地提高了产品的品质,并为今后相关问题的进一步研究和解决奠定了一定的理论基础。

关 键 词：TFT-LCD Mura  抖动 耦合电容 画面品质

分 类 号：TN873.93]