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沈阳芯源微电子设备有限公司 收藏

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研究主题:晶片    晶圆    半导体行业    涂胶    半导体设备    

研究学科:电子信息类    自动化类    电气类    经济学类    机械类    

被引量:30H指数:3EI: 1 北大核心: 4 CSSCI: 1 CSCD: 3

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466 条 记 录,以下是 1-10

用PLC脉冲输出控制步进电机
1
《电工技术》沈阳芯源微电子设备有限公司;沈阳工业大学电气工程学院 苗涛 范永海 孙东丰  出版年:2008
利用西门子PLC配置位控模块输出的脉冲信号,驱动步进电机控制器完成了对步进电机转动角位移的控制,达到了位置控制的目的。同时,也满足了工业现场的需要。
关键词:步进电机 PLC 脉冲输出
硅片背面铜污染的清洗
2
《半导体技术》沈阳芯源微电子设备有限公司 陈波  出版年:2011
国家科技重大专项(2009ZX02008);科技部国际合作计划(2010DBF10660);沈阳市科技专项资助项目(Z201001008)
H2SO4/H2O2/H2O、HNO3/HF和HF/H2O2/H2O为半导体芯片生产过程中三种去除硅片背面铜污染的化学清洗液。在单片湿法清洗机上采用这三种化学液对直径300 mm具有类似于实际生产中铜污染的硅片进行了清洗...
关键词:铜污染 湿法 单片清洗  硅片背面  刻蚀
校企文化与协同培养工程科技人才研究
3
《黑龙江高教研究》哈尔滨理工大学;沈阳芯源微电子设备有限公司 艾红 崔玉祥 宗润福  出版年:2016
教育部人文社会科学研究项目(工程科技人才专项)"校企协同培养工程人才深度合作机制研究"(编号:15JDGC020);黑龙江省高等教育教学改革工程项目"基于控制论模型的卓越计划质量评价体系研究"(编号:GJ2014010796)的研究成果
我国高等工程教育体系是随着中国工业化发展进程而形成的,工程科技人才的培养始终坚持走教育与生产劳动相结合、校企产学研合作的道路。校企产学研合作,产教融合协同育人是培养工程科技人才的有效途径。从校企合作的本质需要来看,校企文...
关键词:校企合作 文化融合 协同机制  
显影工艺及显影喷嘴的应用
4
《中国高新科技》沈阳芯源微电子设备有限公司 郭聪 张怀东  出版年:2018
集成电路(IntegratedCircuit,IC)的发明与应用是人类科技发展的重要进程之一。随着半导体科技的进步、工艺的提高,对半导体设备的要求也随之提高。作为IC应用大国,我国正以前所未有的力度发展IC产业,为有自己...
关键词:光刻工艺 显影工艺  显影喷嘴  喷洒方式  
谈涂胶/显影设备中的关键装置——HP
5
《科技资讯》沈阳芯源微电子设备有限公司;沈阳工业大学信息工程学院 苗涛 赵继忠  出版年:2008
对涂胶/显影设备中的关键装置——HP(Hot Plate)进行系统的分析,介绍了该装置的工艺作用、控制器原理和PID参数的调整设置过程。
关键词:HP 烘焙 PID
凸点下金属层湿法刻蚀与凸点底切的控制
6
《半导体技术》沈阳芯源微电子设备有限公司 陈波 陈焱 谷德君  出版年:2009
国家科技重大专项资助项目(2009ZX02009)
介绍了电镀凸点封装工艺流程和其中有关金属层湿化学刻蚀的问题。通过槽式批量和单片机刻蚀相应的UBM(凸点下金属层)的均匀度、刻蚀速率和凸点底切的对比,结果显示单片湿法刻蚀机刻蚀均匀度小于5%且片与片之间刻蚀速率差异小于2%...
关键词:凸点下金属层  湿法刻蚀 凸点底切  单片机 电镀凸点  刻蚀速率 刻蚀均匀度  
对涂胶显影机与光刻机内联控制的研究
7
《科技经济导刊》沈阳芯源微电子设备有限公司 王绍勇 黄琳琳  出版年:2018
沈阳市重大共性关键技术创新专项(17-92-0-00)
光刻工艺是集成电路制造(前道)过程中的重要环节。在集成电路制造过程中,通常将涂胶显影机与光刻机相连接,进行一体化加工。目前,国产涂胶显影机与光刻机的内联控制在技术资料等资源方面相对匮乏,从机械接口形式、通信协议、调度、故...
关键词:光刻机 涂胶显影机  内联  
AZ4620光刻胶的喷雾式涂胶工艺
8
《电子工业专用设备》沈阳芯源微电子设备有限公司 邢栗 汪明波  出版年:2011
对于一些MEMS应用,需要在形貌起伏很大的晶圆表面均匀地涂布光刻胶。喷雾式涂胶工艺满足了这些要求。研究了几种稀释的AZ4620光刻胶溶液的雾化喷涂性能,在沈阳芯源微电子设备有限公司KS-M200-1SP喷雾式涂胶机上进行...
关键词:喷雾式涂胶机  AZ4620光刻胶  膜厚 均匀性
应用于MEMS及3D-IC封装中的喷胶技术
9
《电子世界》沈阳芯源微电子设备有限公司 张晨阳 邢栗  出版年:2018
随着MEMS制造及3D-IC封装技术的发展,喷胶技术的应用越来越广泛。本文结合实验论述了喷胶技术的发展、应用、优点;分析了影响喷胶工艺质量的因素;并对未来喷胶技术的前景作了一定的展望。实验采用AZ4620光刻胶,对375...
关键词:封装技术 MEMS 喷胶 应用  IC封装 微电子机械系统 工艺质量  高集成度
单片湿法刻蚀机供酸管路系统设计
10
《电子工业专用设备》沈阳芯源微电子设备有限公司 孙大伟 陈波  出版年:2009
介绍湿法刻蚀技术在硅片加工中的应用,重点讨论了湿法刻蚀设备中供应化学液的化学管路系统的设计,管路上主要安装的部件及其功能,以及各部件的布置方式。通过对湿法刻蚀技术中主要工艺参数的影响程度来分析和调整管路上主要部件的使用和...
关键词:硅片加工 湿法刻蚀 化学管路系统  
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