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期刊文章详细信息

显影工艺及显影喷嘴的应用    

  

文献类型:期刊文章

作  者:郭聪[1] 张怀东[1]

机构地区:[1]沈阳芯源微电子设备有限公司,辽宁沈阳110168

出  处:《中国高新科技》

年  份:2018

期  号:20

起止页码:21-23

语  种:中文

收录情况:JST、普通刊

摘  要:集成电路(IntegratedCircuit,IC)的发明与应用是人类科技发展的重要进程之一。随着半导体科技的进步、工艺的提高,对半导体设备的要求也随之提高。作为IC应用大国,我国正以前所未有的力度发展IC产业,为有自己的"中国芯"而大力发展国产半导体设备替代国外设备,而关键工艺中的关键技术更是需要通过沉淀积累来厚积薄发。文章对显影工艺及显影喷嘴的应用进行介绍。

关 键 词:光刻工艺 显影工艺  显影喷嘴  喷洒方式  

分 类 号:TN305]

参考文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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