期刊文章详细信息
AZ4620光刻胶的喷雾式涂胶工艺
Spray Coating of AZ4562 Photoresist
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]沈阳芯源微电子设备有限公司,辽宁沈阳110168
年 份：2011
卷 号：40
期 号：12
起止页码：43-46
语 种：中文
收录情况：普通刊
摘 要：对于一些MEMS应用,需要在形貌起伏很大的晶圆表面均匀地涂布光刻胶。喷雾式涂胶工艺满足了这些要求。研究了几种稀释的AZ4620光刻胶溶液的雾化喷涂性能,在沈阳芯源微电子设备有限公司KS-M200-1SP喷雾式涂胶机上进行了雾化喷涂试验,分别对裸片及深孔不同尺寸的晶圆进行喷雾式涂胶实验;特别研究了决定喷涂薄膜膜厚和均匀性的光刻胶流量和浓度;实验得到的膜厚和均匀性可以满足图形复杂、有深孔的晶圆。结尾列出了喷雾式涂胶在实际中的一些应用。这些结果证明喷雾式涂胶存在的潜力以及美好前景。
关 键 词：喷雾式涂胶机 AZ4620光刻胶 膜厚 均匀性
分 类 号：TN305]
参考文献：
正在载入数据...
二级参考文献：
正在载入数据...
耦合文献：
正在载入数据...
引证文献：
正在载入数据...
二级引证文献：
正在载入数据...
同被引文献：
正在载入数据...
