上海华力微电子有限公司 
研究主题：晶圆 刻蚀 半导体 刻蚀工艺 光刻
研究学科：电子信息类 自动化类 经济学类 电气类 交通运输类
- 基于智能服装的消防员位置信息融合研究
- 1
- 《武汉纺织大学学报》东华大学信息科学与技术学院;东华大学教育部数字化纺织服装工程技术工程研究中心;上海华力微电子有限公司 林建琴 许武军 李媛媛 出版年：2015
- 关键词：信息融合 智能防护服 GPS接收器 气压高度测量仪 联合卡尔曼滤波
- 带有自偏置功能的高性能带隙基准源电路设计
- 2
- 《中国集成电路》上海华力微电子有限公司 陈剑 马腾飞 出版年：2018
- 关键词：带隙基准源 环路补偿 自偏置 修调
- 基于高频延迟锁相环的高性能电荷泵的设计与研究
- 3
- 《中国集成电路》上海华力集成电路制造有限公司;上海华力微电子有限公司 于建华 李嘉 出版年：2018
- 关键词：高频延迟锁相环设计 沟道电荷注入 时钟馈通
- 半导体刻蚀工艺的晶圆背面颗粒研究
- 4
- 《科技资讯》上海华力微电子有限公司 唐在峰 吴智勇 任昱 出版年：2017
- 关键词：半导体制造 晶圆 背面 干法刻蚀 颗粒
- 一种电荷泵型低抖动锁相环电路设计
- 5
- 《中国集成电路》上海华力微电子有限公司 宋辉英 出版年：2019
- 关键词：锁相环 电荷泵 鉴频鉴相器 低通滤波器 抖动
- 锁相环中高性能电荷泵的电路设计
- 6
- 《中国集成电路》上海华力微电子有限公司 陈剑 王志利 出版年：2018
- 关键词：锁相环 电荷泵 电流镜 匹配精度 电压毛刺
- 栅介质氧化层缺失缺陷的形成原因及解决方案
- 7
- 《半导体技术》上海华力微电子有限公司 张红伟 出版年：2015
- 关键词：原位水蒸气生成(ISSG) 栅介质氧化层缺失 界面态 负偏压不稳定性(NBTI) 静态随机存储器(SRAM)成品率
- 55 nm接触孔刻蚀工艺改善
- 8
- 《集成电路应用》上海华力微电子有限公司 龚华 出版年：2018
- 关键词：集成电路制造 接触孔刻蚀 光阻 先进图形膜 关键尺寸 工艺窗口
- 基于55 nm工艺大容量EFUSE烧写特性研究
- 9
- 《集成电路应用》上海华力微电子有限公司 武建宏 左卫松 出版年：2018
- 关键词：集成电路制造 EFUSE 电迁移
- 共享手臂型涂胶显影机特殊T形缺陷成因及解决办法研究
- 10
- 《中国集成电路》上海华力微电子有限公司 秦利鹏 出版年：2019
- 关键词：光刻 缺陷 Tmap 回吸
