期刊文章详细信息
基于55 nm工艺大容量EFUSE烧写特性研究
Research on the Large Capacity EFUSE Programming Characteristic Based on 55 nm CMOS Process
文献类型:期刊文章
WU Jianhong;ZUO Weisong(Shanghai Huali Microelectronics Co. Ltd, Shanghai 201203, China.)
机构地区:[1]上海华力微电子有限公司,上海201203
基 金:上海市经济和信息化委员会软件和集成电路产业发展专项基金(2015.150204)
年 份:2018
卷 号:35
期 号:6
起止页码:29-32
语 种:中文
收录情况:普通刊
摘 要:传统EFUSE烧写主要通过电压与时间的组合来实现。但是由于大容量的EFUSE本身内部的寄生电阻造成EFUSE的各个单元的应加条件不同,导致烧写结果不同。而采用传统电压方式烧写EFUSE可能出现瞬间大电流,导致EFUSE热效应爆炸或熔断。在这种效应下EFUSE炸出的东西会污染周边电路导致短路失效。或者EFUSE熔化扭曲消耗的能量,导致EFUSE没有烧断。当EFUSE在高温烘烤时熔断部分可能再次连接导致EFUSE数据失效。即使烧断也有部分EFUSE单元熔后电阻偏小,影响长期使用的可靠性。采用电流模式的EFUSE烧写可以有效避免热效应产生的可靠性问题,使EFUSE在电迁移模式下进行可靠烧写编程。
关 键 词:集成电路制造 EFUSE 电迁移
分 类 号:TN405]
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