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北京工业大学电子工程系北京市光电子技术实验室 收藏

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研究主题:SIGE    硅    HBT    发射结    大功率    

研究学科:电子信息类    

被引量:1H指数:1WOS: 1 EI: 2 北大核心: 3 CSCD: 4

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SiGe/SiHBT发射结的寄生势垒及其对器件室温和低温特性的影响 ( EI收录)
1
《Journal of Semiconductors》北京工业大学电子工程系北京市光电子技术实验室 徐晨 沈光地 陈建新 邹德恕 李建军 罗辑 魏欢 周静 董欣  出版年:2000
国家"8 63"计划!:No.863-30 7-1 0 5-4 ( 0 6) ;国家自然科学基金!:No.698760 0 4 ;国家自然科学基金重大项目 !:No.698962 60 -0
研究了 Si Ge/Si HBT基区 B杂质的偏析和外扩散对器件的影响 .发现用 MBE生长的Si Ge基区中 ,在材料生长时 B杂质的上述行为会严重破坏器件的室温电流增益并改变器件的低温性能 .采用数值计算分析了 B杂...
关键词:SIGE HBT 寄生势垒  低温特性  
新型大功率双波长半导体激光器的研制
2
《固体电子学研究与进展》北京工业大学电子工程系北京光电子技术实验室 郭伟玲 田咏桃 李建军 马丽娜 鲁鹏程 王婷 邹德恕 沈光地  出版年:2005
国家 973计划 (No.2 0 0 0 0 683 -0 2 ) ;北京市科委项目 (KP0 2 0 42 0 0 2 0 1) ;北京市教委项目 (2 0 0 2 KJ0 18)
提出了一种新结构半导体双波长激光器 ,即用隧道结把两个发射不同波长的激光器结构通过外延生长的方法连接起来。通过计算和设计 ,制备了性能良好的大功率激射的双波长半导体激光器。双波长器件的实际激射波长分别为 95 1 nm和...
关键词:大功率 半导体激光器 双波长 隧道结
Si/SiGe腐蚀停止技术的研究及其在SiGe/SiHBT工艺中的应用
3
《北京工业大学学报》北京工业大学电子工程系北京市光电子技术实验室 陈建新 袁颖 杜春霞 张时明 赵玉琴 沈光地  出版年:1996
国家科委"863计划"资助项目
对SiGe/Si腐蚀停止技术进行了大量的实验研究,分析了腐蚀的化学机理,并在一定的腐蚀液浓度和温度下,获得了Si和SiGe的腐蚀速率比大于30的结果。该技术极宜在SiGe/SiHBT制作中应用。
关键词:硅锗 半导体工艺 腐蚀停止技术  
LPE法在Si衬底上生长SiGe层的方法及电子特性的研究 ( EI收录)
4
《Journal of Semiconductors》北京工业大学电子工程系 陈建新 邹德恕 张时明 韩军 沈光地  出版年:1996
本文介绍了在电阻率为(77~300)kΩ·cm的n型(111)Si衬底上用LPE法生长高质量Si1-XGex单晶薄层(其厚度一般为1~3μm)的生长条件,并对引入的缺陷进行了TEM研究,结果表明其缺陷密度和用MBE及超高...
关键词:SIGE LPE法硅  外延生长  电子特性
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