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沈阳真空技术研究所 收藏

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研究主题:真空    真空技术    真空设备    真空泵    真空冶金    

研究学科:电气类    电子信息类    自动化类    机械类    经济学类    

被引量:475H指数:9WOS: 1 EI: 7 北大核心: 114 CSCD: 10

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412 条 记 录,以下是 1-10

ITO膜透明导电玻璃的应用前景及工业化生产
1
《真空》机械工业部沈阳真空技术研究所 姜燮昌 胡勇  出版年:1995
本文综述了ITO膜透导电玻璃的应用前景,列举了当前国内外市场现状及预测。透明导电玻璃是液晶平板显示器(LC)的主要材料,LCD顺应时代的潮流,作为人机接口产品将获得比半导体产业更大的增长率。日本达到了38%。90年代由于...
关键词:ITO膜玻璃  工艺  设备  导电玻璃
大面积反应溅射技术的最新进展及应用
2
《真空》沈阳真空技术研究所 姜燮昌  出版年:2002
磁控溅射已经成为沉积薄膜的最重要的方法之一。然而 ,这种镀膜技术亦存在一些缺点 (例如 ,有限的溅射产额和反应溅射过程中等离子体不稳定等问题 ) ,所以它不适宜于在介质膜工业生产中应用。本文介绍了一种新的中频 (MF)电...
关键词:应用  大面积镀膜  反应溅射 中频溅射  工艺控制系统  中频电源 孪生靶磁控溅射  薄膜  制备  
趋势外推法在电力负荷预测中的应用
3
《沈阳工程学院学报(自然科学版)》沈阳工程学院电本001班;沈阳工程学院 电气工程系;沈阳真空技术研究所技术部 李栓 刘莉 刘阳  出版年:2005
研究了电力系统负荷预测的趋势外推预测技术,采用二次指数平滑技术和二阶自适应系数法进行发电量预测, 并运用 C 语言编程,通过实际算例进行了比较分析.
关键词:电力系统 负荷预测 趋势外推法
真空镀膜技术的最新进展
4
《真空》沈阳真空技术研究所 姜燮昌  出版年:1999
本文介绍了旋转磁控溅射和电弧离子镀技术的最新进展。论述了旋转圆柱磁控溅射靶CMag、孪生磁控溅射靶Tw inMag 和旋转磁控柱状弧源的特性及其应用。本文还对Low E膜和ITO膜的制备工艺和设备进行了分析研究。
关键词:真空镀膜 柱状弧源  旋转磁控溅射  电弧离子镀
真空高压气淬技术和设备的进展
5
《真空》东北大学机械工程及自动化学院;沈阳真空技术研究所 王志坚 徐成海 李福忠 王宝霞 李孟春 郑辉  出版年:2002
分析了影响真空高压气淬设备淬火效果的因素 ,介绍了真空高压气淬技术和设备的国内外研究情况 。
关键词:真空高压气淬技术  设备  淬火效果  低温对流加热  等温分级淬火  计算流体力学
光催化TiO_2薄膜的溅射沉积技术
6
《真空》沈阳真空技术研究所 姜燮昌  出版年:2005
采用直流反应溅射技术可以制备出具有光催化作用的TiO2薄膜。这种TiO2薄膜经紫外光辐照后,可以分解有机物以及降低水和TiO2薄膜表面之间的接触角。然而,普通的直流反应溅射在制备介质膜时,普遍都存在着工艺不稳定、沉积速率...
关键词:TIO2薄膜 光催化特性 DC反应溅射  脉冲溅射  工艺控制  
干式螺杆真空泵的结构、性能与应用
7
《真空》沈阳真空技术研究所 姜燮昌  出版年:2018
本文首先介绍了螺杆真空泵的结构、性能、技术参数以及使用中的注意事项。同时还对螺杆真空泵与罗茨型干泵、爪式干泵在气路和抽速特性方面进行了比较。最后讨论了螺杆真空泵在制药行业溶媒回收、石化行业汽油蒸汽回收以及空间模拟方面的应...
关键词:螺杆真空泵 结构  性能  应用  
低辐射膜玻璃的最新进展
8
《真空》沈阳真空技术研究所 姜燮昌  出版年:2003
最初开发的 L ow- E玻璃主要用于寒冷地区 ,以降低能源的消耗。但是由于双银 L ow- E玻璃在保持较高透光率的同时 ,又能反射阳光红外部分的能量 ,所以它亦能用于温暖地区 ,以节省空调的费用。本文介绍一种最近开发...
关键词:新的Low-E涂层  Low-E风档玻璃  可热处理的Low-E玻璃  
真空脱气原理和技术
9
《真空》沈阳真空技术研究所 王壮  出版年:1999
本文在探讨真空脱气原理基础上,提出有效真空脱气方式和措施,为改进和提高真空脱气装置的效果提供一些依据。
关键词:真空脱气 原理  脱气装置
影响真空自耗电极电弧炉电弧稳定性的因素及对策
10
《真空》沈阳真空技术研究所 张晶宇 范丽娟 张一鹏 康宁  出版年:2003
本文总结了影响真空自耗电极电弧炉电弧稳定的多种因素。通过理论分析 ,总结出在设计和控制方面采取的应对方案和方法。
关键词:真空自耗电极电弧炉  电弧稳定性 设计  控制  熔炼 真空度 电源 电极 坩埚壁  间距  
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