期刊文章详细信息
真空镀膜技术的最新进展
Latest Development for Vacuum Coating Technology
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]沈阳真空技术研究所
年 份：1999
期 号：5
起止页码：1-7
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX1996、CAS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：本文介绍了旋转磁控溅射和电弧离子镀技术的最新进展。论述了旋转圆柱磁控溅射靶ＣＭａｇ、孪生磁控溅射靶Ｔｗ ｉｎＭａｇ 和旋转磁控柱状弧源的特性及其应用。本文还对Ｌｏｗ Ｅ膜和ＩＴＯ膜的制备工艺和设备进行了分析研究。
关 键 词：真空镀膜 柱状弧源 旋转磁控溅射 电弧离子镀
分 类 号：TN305.8]
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