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南京电子器件研究所国家平板显示工程技术研究中心 收藏

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研究主题:彩色PDP    光刻工艺    等离子体显示器    优化设计    PDP    

研究学科:电子信息类    机械类    

被引量:41H指数:3WOS: 2 北大核心: 6 CSCD: 8

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14 条 记 录,以下是 1-10

有源矩阵液晶显示器微功耗低温加固技术
1
《液晶与显示》南京电子器件研究所国家平板显示工程技术研究中心 余雷 钱永胜  出版年:2003
国家军用电子器件重大攻关项目(9904AG08)
介绍一种新研制的低温液晶显示器(LCD),在显示器中设计了一套透明的加热、真空保温、抗眩光及电磁屏蔽装置,低温工作时,只需非常小的加热功率,就能使液晶显示器正常工作,同时可以利用该装置中的氧化铟锡(ITO)导电膜层满足显...
关键词:有源矩阵低温液晶显示器  设计  电磁兼容 低温加固  微功耗  真空保温  防眩光  可靠性
光刻工艺参数的优化方法
2
《半导体光电》南京电子器件研究所国家平板显示工程技术研究中心 刘忠安  出版年:2001
通过引入有效时差的概念 ,提出了一种可模拟光刻工艺参数间的相互关系及优化光刻参数的方法。与Dill及Mack等的方法相比 ,该方法可直接建立光刻工艺参数之间的关系 ,并可对光刻工艺进行优化设计。
关键词:光刻工艺 有效时差  优化设计 半导体
厚膜光刻工艺在PDP中的应用
3
《光电子技术》南京电子器件研究所国家平板显示工程技术研究中心 陈秀敏  出版年:2001
简要介绍了表面放电型 ACPDP制作工艺中电极、障壁和荧光粉的厚膜光刻技术 。
关键词:厚膜 光刻工艺 等离子体显示器 电极
液晶显示器件的最新发展
4
《真空电子技术》南京电子器件研究所国家平板显示工程技术研究中心 朱昌昌  出版年:2002
简要介绍液晶显示器件其市场现状和未来发展方向 ,主要叙述TFT LCD、LCOS等技术的特点、最新发展及运用前景。
关键词:液晶显示器 薄膜晶体管 硅基液晶显示  
彩色PDP喷砂工艺的障壁层清除速率和工艺稳定性研究
5
《真空科学与技术》南京电子器件研究所国家平板显示工程技术中心 刘忠安  出版年:2000
国家自然科学基金青年基金!资助项目 (5 970 2 0 0 5 )
提出了彩色PDP喷砂工艺障壁层清除速率的测量公式和减小测量误差的方法 ,讨论了影响清除速率的相关参数及用清除速率定量控制喷砂工艺的条件。指出高耐磨并采用特殊设计的喷头是提高喷砂工艺稳定性和可控性的关键 ,小孔径圆柱状喷头...
关键词:障壁层清除速率  喷砂工艺  彩色等离子体显示器
彩色PDP的研究课题
6
《真空电子技术》南京电子器件研究所国家平板显示工程技术研究中心 刘忠安  出版年:2003
简述了彩色PDP的研究课题、相关的技术问题、需解决的关键技术及相关的重点研究课题。
关键词:等离子体显示器 亮度 发光效率 制作工艺  
一种提高硅基OLED微显示器对比度的像素电路
7
《固体电子学研究与进展》南京电子器件研究所 杨淼 张白雪 陈建军 曹允  出版年:2015
提出了一种应用于硅基有机发光二极管(Organic light emitting diode,OLED)微显示驱动芯片的新型像素单元电路,具有三个MOSFET和一个存储电容。相比传统的电压驱动像素单元电路,增加的一个MO...
关键词:硅基有机发光二极管  微显示 像素单元电路  
LCD用彩色滤色器的现状和进展
8
《光电子技术》南京电子器件研究所国家平板显示工程技术研究中心 朱昌昌 陈嵘  出版年:1996
简要综述了LCD用彩色滤色器研究的现状,报道了彩色滤色器市场和生产的变化情况,介绍了彩色滤色器研究发展的新动向。
关键词:彩色滤色器 液晶显示 黑矩阵
彩色PDP障壁粉清除速率公式与喷砂工艺控制研究
9
《真空电子技术》南京电子器件研究所国家平板显示工程技术研究中心 刘忠安  出版年:2000
本文讨论了彩色PDP喷砂工艺中障壁粉清除速率与喷砂工艺控制参数之间的关系,提出了用障壁粉清除速率公式来控喷砂工艺的方法。
关键词:喷砂工艺  障壁 清除速率公式  等离子体显示器
相邻像素的投影和杂散光对反射型LCDs对比度的影响
10
《液晶与显示》国家平板显示工程技术研究中心南京电子器件研究所 刘忠安  出版年:1998
研究了相邻像素的投影和杂散光对反射型LCDs对比度的影响。结果表明,在LCDs的测量过程中,由于受邻近像素的投影和杂散光的影响,当和被测像素邻近的像素和被测像素同时选通时,可使测量到的对比度和视角特性发生不容忽视的变化;...
关键词:对比度 视角特性  像素投影  杂散光 液晶显示器件 相邻像素 反射型LCDs  
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