期刊文章详细信息
光刻工艺参数的优化方法
Optimization of Photolithography Process Parameters
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]南京电子器件研究所国家平板显示工程技术研究中心,江苏南京210016
年 份：2001
卷 号：22
期 号：1
起止页码：52-53
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX2000、CAS、CSCD、CSCD_E2011_2012、INSPEC、JST、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：通过引入有效时差的概念 ,提出了一种可模拟光刻工艺参数间的相互关系及优化光刻参数的方法。与Dill及Mack等的方法相比 ,该方法可直接建立光刻工艺参数之间的关系 ,并可对光刻工艺进行优化设计。
关 键 词：光刻工艺 有效时差 优化设计 半导体
分 类 号：TN305.7]
参考文献：
正在载入数据...
二级参考文献：
正在载入数据...
耦合文献：
正在载入数据...
引证文献：
正在载入数据...
二级引证文献：
正在载入数据...
同被引文献：
正在载入数据...
