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期刊文章详细信息

厚膜光刻工艺在PDP中的应用    

Thick Film Photolithography Technologies for ACPDPs

  

文献类型:期刊文章

作  者:陈秀敏[1]

机构地区:[1]南京电子器件研究所国家平板显示工程技术研究中心,南京210016

出  处:《光电子技术》

年  份:2001

卷  号:21

期  号:1

起止页码:39-44

语  种:中文

收录情况:CAS、ZGKJHX、普通刊

摘  要:简要介绍了表面放电型 ACPDP制作工艺中电极、障壁和荧光粉的厚膜光刻技术 。

关 键 词:厚膜 光刻工艺 等离子体显示器 电极

分 类 号:TN873.94]

参考文献:

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同被引文献:

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