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河北工业大学信息工程学院 收藏

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研究主题:CMP    化学机械抛光    抛光液    去除速率    ULSI    

研究学科:电子信息类    自动化类    电气类    机械类    交通运输类    

被引量:3,934H指数:20WOS: 60 EI: 204 北大核心: 744 CSCD: 488

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